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Flat-type LED조명 도광판의 초정밀 레이저 가공 = High-precision Laser Processing of LGP for Flat-type LED Lighting
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학술지명
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발행연도
2015
작성언어
Korean
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등재정보
KCI등재,SCOPUS
자료형태
학술저널
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933-937(5쪽)
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3
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Flat-type LED lighting has the obstacle of luminance uniformity degradation due to the planar light that is formed through the reflector and the light guide panel (LGP) from the side light source.
Especially, point glare and/or discomfort glare occur in large-area lighting due to the Lambertian distribution of the light that is used for high-luminance LED sources. In this research, we tried to remove the remaining glare and to resolve the nonuniformity and inefficiency problems associated with the luminance. We designed a scatterer pattern, which is to be inscribed into the LGP, by using different direction of light source. The effect of the proposed pattern was analyzed by comparing its results to these of a simulation before laser processing of the LGP. The uniformity is improved when the scatterer pattern is arrayed perpendicular to the light source. Also, the uniformity and the efficiency of the luminance are improved when the scatterer pattern, which performs the role of a waveguide, is parallel to the light source. This result was applied to laser processing; the results were compared and analyzed.
Flat-type LED조명시스템에서는 측면 LED 광원으로부터 나오는 빛을 반사판 및 도광판을 통해 평면광의 형태로 형성하기 때문에 휘도 및 균일도의 저하를 가져올 수 있다. 특히 대면적 조명시스템에 적용되는 고휘도 LED 광원은 램버시안 배광 형태를 지니기 때문에 점 눈부심 또는 불쾌 눈부심이 나타나고 있다. 본 연구에서는 잔존하는 눈부심을 제거하고 휘도의 비균일성 및 비효율성의 문제점을 해결하고자 한다. 도광판의 산란패턴을 광원의 방향과 다르게 조절하여 설계하고, 이에 따른 패턴 효과의 차이점을 분석하고자 레이저 가공전에 전산모사를 수행하였다. 광원의 방향과 수직으로 배열된 패턴의 경우 측면으로의 균일성을 향상시켰으며, 평행하게 배열된 패턴은 도파관 역할을 함으로써 휘도의 균일성과 효율성을 높여줌을 알 수 있었다. 이러한 전산모사의 결과를 레이저 가공을 통하여 비교 분석하였다.
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연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
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2023 | 평가예정 | 해외DB학술지평가 신청대상 (해외등재 학술지 평가) | |
2020-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (해외등재 학술지 평가) | KCI등재 |
2016-09-05 | 학술지명변경 | 외국어명 : Sae Mulli(New Physics) -> New Physics: Sae Mulli | KCI등재 |
2015-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2011-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2009-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2007-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2004-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
2003-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) | KCI후보 |
2002-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 유지 (등재후보1차) | KCI후보 |
1999-07-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
---|---|---|---|
2016 | 0.18 | 0.18 | 0.17 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.15 | 0.14 | 0.3 | 0.1 |
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