記憶素子材料로서의 强磁性薄膜에 關한 硏究 = A Study on the Materials of Ferromagnetic Thin Films for the Memory Elements
저자
洪鳳植 (Chungnam National University)
발행기관
학술지명
권호사항
발행연도
1975
작성언어
Korean
KDC
530.000
자료형태
학술저널
수록면
147-164(18쪽)
제공처
The influence of pH in electrodeposited solution upon ferromagnetic thin films are studied in order to decide the proper production condition for good practical and stable quality of ferromagnetic thin film which can be applied as memory elements produced by the electrodeposited method.
The thin films of 2000Å thickness of Ni, Permalloy, Co, and Fe are made on polycrystalline Cu substrate by the electrodeposited method, and the magnetic properties such as saturation magnetization and coercive force are measured with the magnetic hysteresis loop tracer modified for this work : another test is made on the effect of heat treatment of the thin films, after annealing is applied in the temperature range of 100-400℃ in 2×10^-5 Torr.
The values of saturation magnetization the films of Ni, Permalloy, Co, and Fe films deposited in pH less than 6.5 reached to those of bulk and the values of saturation magnetization of the films deposited in pH more than 6.5 decreased to half of those of pH than 6.5.
The coercive force of the thin films of Ni, Permalloy, Co, and Fe of pH less than 6.5 is as follows :
Ni ; about 70 Oe
Permally ; about 12 Oe
Co ; about 50 Oe
Fe ; about 30 Oe
The values of coercive force of pH more than 6.5, excepting the Fe film rose 3 to 4 time higher values than those of pH less than 6.5. On the other hand, the coercive force of Fe, whose pH was more than 6.5 has the tendency to decrease.
If the electrodeposited films of pH more than 6.5 are annealed at 350℃ for an hour, the saturation magnetization becomes almost the same value as that of the films of pH less than 6.5 except Fe which shows a slight decrease with increase of temperature.
Experimental results show that any saturation magnetization and sudden change of coercive force in either above or below 6.5 of pH occurs when hydrogen elements of the solution insert into the grain boundary or when hydrogen oxide occurs in it.
Consequently, according to the experimental results, it may be concluded that in order to have films which can be applied as stable memory elements produced by electrodeposited method, the films are to be annealed for an hour at 350℃ temperature in vacuum, keeping the pH of the electrodeposited solution below 6.5..
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