화학적 에칭에서 교반속도 및 에칭 시간에 따른 유리 표면에서의 요철 형성과 Haze 및 투과도
저자
손정일 (순천향대학교 공과대학 디스플레이신소재공학과) ; 김남혁 (순천향대학교 공과대학 디스플레이신소재공학과) ; 김광수 (순천향대학교 공과대학 디스플레이신소재공학과)
발행기관
순천향대학교 부설 산업기술연구소(Institute for Industrial Technology SOONCHUNHYANG UNIVERSITY)
학술지명
순천향 산업기술연구소논문집(Soonchunhyang Journal of Institute for Industrial Technology)
권호사항
발행연도
2016
작성언어
Korean
주제어
자료형태
학술저널
수록면
101-107(7쪽)
제공처
소장기관
We investigated the effect of stirring speed and etching time on the hillock formation, haze and
transmittance on the chemically etched glass. The chemical etching process were carried out by two
steps. The Buffered hydrofluoric(BHF) acid was used for etching solution on the first step etching
process. The BHF solution was made by mixture of HF, NH4F and distilled water. The combined
solution with BHF and hydrochloric acid(HCl) was selected as the second step etching solution. The
first etching process was performed on the several etching times and two different stirring speeds such
as 100 and, 300rpm. The hillock formation was observed on the substrate glass after 1st step chemical
etching process. The hillock was appeared to be protuberant on the surface. The density of the hillock
was increased and the size of hillock was decreased as increasing stirring speed. The density of the
hillock was also increased as increasing etching time. The micro-sized hillock on the surface was
responsible for the haze and transmittance. The haze value was increased as increasing etching time and
also as reducing stirring speed. While, the transmittance of the etched glass displayed pretty much
constant values, like about 92%. However, the haze value could be reduced as experiencing the 2nd
step etching process. It was also observed that the hillock was analyzed as ammonium based crystals by
XRD and these crystals were dissolved after 2nd etching process.
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