전기도금용 고주파 펄스전원장치 = High Freuquency Pulse Power Supply for Electroplating
저자
권순걸 (경남대학교 공과대학 전기전자공학부 교수) ; 이현우 (경남대학교 공과대학 전기전자공학부 교수) ; 구헌회 (경남대학교 공과대학 전기전자공학부 강사)
발행기관
경남대학교 공업기술연구소(The Research Institute of Engineering Technology Kyungnam University)
학술지명
권호사항
발행연도
2000
작성언어
Korean
KDC
560.000
자료형태
학술저널
수록면
183-189(7쪽)
제공처
소장기관
펄스 형태의 전류에 의한 도금은 고갈된 이온이 current off 시기동안 도금표면 층으로 재확산 할 수 있는 기회를 주어 기존의 DC도금에 비해 고전류 밀도에서 전착을 가능하게 한다. 이러한 특성으로 인해 펄스전류에 의한 도금은 결정립의 미세화, 밀착력 및 피복력의 개선, 수소취성의 감소, 균일한 합금도금, 내부응력 및 미세균열 감소, 전류효율 증가 등의 여러 가지 장점이 있다. 이에 본 논문에서는 고밀도의 전류를 공급할 수 있는 전원공급장치를 개발하여 품질을 향상하기 위하여 연구하였다.
더보기Pulse plating is able to deposit material at high current density compared to conventional DC plating. For example, pulse plating can get more fine grain, can improve adhension and metal distribution and current efficiency, can reduce internal stress and crack.
Therefore, we studied pulsed power supply which has high current density and improve deposition quality and increase plating speed in this paper.
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