KCI등재
반도체집적회로 배치설계의 업무상 창작자 지위 인정과 종업원 보상에 대한 소고 = A Study on Employee Rights as a Creator in a Semiconductor Integrated Circuit Layout-Design Created in Service, and Employee Compensation
저자
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학술지명
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발행연도
2016
작성언어
Korean
주제어
등재정보
KCI등재
자료형태
학술저널
수록면
145-170(26쪽)
KCI 피인용횟수
0
제공처
소장기관
반도체집적회로의 배치설계에 관한 법률 제5조는 ‘업무상 창작한 배치설계의 창작자를 계약이나 근무규정 등에 달리 정한 것이 없으면 그 법인 등을 배치설계의 창작자로 한다’고 정하고 있어, 업무상 창작된 배치설계권의 경우 사용자가 원칙적으로 창작자 지위를 귀속 받게 된다. 따라서, 사용자는 업무상 창작된 배치설계권을 보유하고 권리를 행사할 수 있을 것이나, 실제 창작행위를 한 종업원은 반도체 배치설계 보호법만에 기초하여서는 보상을 받을 수 없다. 국가연구개발사업의 연구개발성과로서 배치설계권이 설정 등록되는 경우 기술의 이전 및 사업화 촉진에 관한 법률, 국가연구개발사업의 관리 등에 관한 규정에 따른 연구자 보상을 받을 수 있는 것과 대비된다.
최근 배치설계권의 설정등록 비중이 대기업은 줄어들고 대학은 늘어나는것으로 파악되는데, 반도체 산업의 구조와 특수성을 감안할 때 반도체 산업에서 비중이 매우 높은 기업체들에 의한 배치설계권 설정등록 건수가 많아지도록 유도할 필요가 있다고 본다. 이와 관련하여, 업무상 배치설계를 창작한 종업원에게 창작자 지위를 인정하고 창작에 따른 보상을 할 수 있도록 반도체 집적회로의 배치설계에 관한 법률이 개선될 수 있다면, 반도체 업체들에 의한 반도체집적회로의 배치설계에 관한 법률의 이용률을 제고할 수 있을 것으로 본다.
본 논문에서는 업무상 창작된 배치설계의 창작자 지위가 사용자에게 귀속되는지 여부를 위주로 국가별로 반도체 집적회로의 배치설계를 보호하기 위한 법률의 규정을 살펴보았다. 또한, 본 논문에서는 배치설계가 업무상 창작되는 경우 실제 창작행위를 한 종업원 등에 대한 보상이 가능한지를 살펴보았으며, 반도체집적회로의 배치설계에 관한 법률 제5조의 수정이 필요하다는 의견을 제시하였다.
Article 5 of the Act on the Layout-Designs of Semiconductor Integrated Circuits provides that “With respect to a layout-design by a person employed by a government, a corporation, an association or other employer (hereinafter referred to as “corporation, etc”), the corporation, etc. is deemed to be the creator, unless otherwise provided in an agreement or an employment regulation and the like”.
Pursuant to this provision, the position as a creator is in principle vested in the employer of the person who created the layout-design in service. Accordingly, the employer can own a right to the layout-design created in service and also exercise the right; however, no compensation is given to the employee who actually created the layout-design, only based on the laws associated with the semiconductor layout-design protection.
This is compared with layout-designs created in national research & development (R & D) projects. In national R & D protects, if, as the R & D output, a layout-design is registered and accordingly a layout-design is established, the researcher who created the layout-design can receive compensation based on the Technology Transfer and Commercialization Promotion Acct and the Regulations on Management of National Research and Development Projects.
Recently, it has been noted that the number of layout-design registrations by large companies has been reduced; conversely, that of
layout-design registrations by the colleges and universities has increased. Considering structure and specialty of the semiconductor industry, it appears that it is necessary to induce those companies being of great importance in the semiconductor industry to increase the number of layout-design registrations. In this connection, it is seen that, if the Act on the Layout-Designs of Semiconductor Integrated Circuits is improved to recognize the employee who created the layout-design in service as a creator of the layout-design and to compensate him/her for the creation, the availability of the Act on the Layout-Designs of Semiconductor Integrated Circuits by the semiconductor companies would be enhanced.
For this Paper, I have reviewed the laws and regulations to protect the layout-designs of the semiconductor integrated circuits by each country, based on whether the position as a creator of the layout-design created in service is vested in the employer. In addition, I have reviewed whether compensation can be given to the employee who actually performed the act of creating a layout-design if the layout-design was created in service, and whether it is necessary to revise Article 5 of the Act on the Layout-Designs of Semiconductor Integrated Circuits.
분석정보
연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
---|---|---|---|
2026 | 평가예정 | 재인증평가 신청대상 (재인증) | |
2020-04-01 | 학회명변경 | 영문명 : Institute for the Study of Law Dong-A University -> The Institute for Legal Studies Dong-A University | KCI등재 |
2020-04-01 | 학술지명변경 | 외국어명 : 미등록 -> DONG-A LAW REVIEW | KCI등재 |
2020-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (재인증) | KCI등재 |
2017-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (계속평가) | KCI등재 |
2013-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2010-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
2009-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) | KCI후보 |
2007-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
---|---|---|---|
2016 | 0.76 | 0.76 | 0.73 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.68 | 0.67 | 0.842 | 0.16 |
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