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반도체용 특수가스 공급장치 내부에서의 가스누출 원인에 따른 유동해석에 관한 연구
저자
김정덕(Jung-Duck Kim) ; 권기선(Ki-sun Kwon) ; 임종국(Jong-Guk Rhim) ; 양원백(Won-Baek Yang) 연구자관계분석
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학술지명
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2021
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Korean
주제어
KDC
575
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학술저널
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42-51(10쪽)
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반도체 제조에 사용하는 특수가스를 공급하는 설비는 인화성·독성·부식성을 지닌 유해·위험물질을 주로 취급하는데, 이러한 공급설비로는 주로 가스캐비닛이 사용되고 있다. 가스캐비닛 내 파열판을 통한 누출, 누출 개구부의 확대가 가능한 누출, 누출 개구부가 확대되지 않는 누출의 케이스별로 공급장치 내부 상태 및 외부로의 확산 영향을 누출 원인별로 분석하였다. 이 경우 누출 단면적에 따라 공급장치 외부로 가스가 누출되는 경우가 발생함을 확인하였다. 외부로 누출되는 가스의 농도에 따라 폭발분위기 형성 등 위험성이 존재하는 요인으로 작용하며, 위험에 따라 공급설비의 안전운전절차 등 제반 조치사항을 다시 검토할 필요가 있음을 확인하였다.
더보기Facilities that supply specialty gases used in semiconductor manufacturing mainly handles with hazardous and dangerous substances with flammable, toxic, and corrosive properties, and gas cabinets are mainly used as such supply facilities. The effects of the supply facilities were analyzed for each leak through the rupture disk in the gas cabinet and a leak where the leak hole. In this case, gas leaked to the outside depending on the leak area. It is a factor that creates a risk depending on the concentration of the leaked gas. Depending on the risk of leakage, all measures such as safe operation procedures should be reviewed again.
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연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
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2026 | 평가예정 | 재인증평가 신청대상 (재인증) | |
2020-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (재인증) | KCI등재 |
2017-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (계속평가) | KCI등재 |
2013-01-01 | 평가 | 등재 1차 FAIL (등재유지) | KCI등재 |
2010-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2008-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
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2004-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) | KCI후보 |
2002-07-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
---|---|---|---|
2016 | 0.49 | 0.49 | 0.44 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.4 | 0.34 | 0.606 | 0.17 |
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