KCI등재
여성 모자 패턴제작을 위한 측정방법과 디자인 개발 연구
저자
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학술지명
권호사항
발행연도
2010
작성언어
Korean
주제어
등재정보
KCI등재
자료형태
학술저널
수록면
157-167(11쪽)
KCI 피인용횟수
2
제공처
본 연구는 성장하고 있는 모자산업에 발맞추어 한국 성인여성의 착용감이 좋은 모자패턴 및 디자인을 개발하기 위함에 목적에 있다. 모자 기본원형 제작의 기초가 되는 머리둘레는 모자 형태나 쓰는 방법의 변화에 따라 차이를 두어야한다는 점을 고려하여 분류된 각 대표 모자의 기본원형을 3D 스캔 데이터에 근거하여 제시하였으며, 이를 활용하여 디자인한 모자 4가지를 제작하였다. 이에 대한 연구 결과를 요약하면 다음과 같다. 첫째, 선행연구 및 문헌에서 정의한 각 머리둘레는 모자 쓰는 위치와 디자인에 따라 모자둘레와 차별을 두어 사용하여야 하며, 두상의 앞면에서는 이마시작점, 이마중간점, 눈살점이, 옆면에서는 귀바퀴위점, 뒷면에서는 뒤통수돌출점, 뒤통수점이 모자 패턴제작을 위한 주요한 계측점으로 지정될 필요가 있다. 둘째, 기존의 1차적인 머리 두께 및 너비길이에 근거한 머리둘레의 Master Oval Pattern 제작에 비하여 3D 스캔 데이터를 활용한 제작방법이 보다 더 쉽고 정확하게 구할 수 있었으므로 앞으로 대량생산 모자의 패턴제작에 있어서는 3D 계측방법의 적용이 활발히 이루어져야 할 것이다. 셋째, 제작된 모자 디자인에 따라 정확한 머리둘레 위치 및 형상을 고려하였기 때문에 착용감이 좋은 결과를 가져올 수 있었다. 넷째, 모자 형태의 분류에 따라 반구형, 원기둥형, 원반형, 무 크라운 모자의 기본원형을 제시하여 다양한 디자인 전개에 활용할 수 있었다.
더보기The purpose of this paper is to provide the growing millinery industry of Korea with basic patterns and design for Korean women`s hats. We begin with the idea that measurement and shape of head circumference is dependent upon hat design and ways of wearing hats. Accordingly, we categorize hats according to their forms and shapes. Then we present basic patterns for selected hats from each category based on 3D scan data of head block models. We also made four sample hats using the basic patterns we developed. Main results are: First, principal measurement points should include glabella, the mid point of forehead, and crinion in the frontal head, occiput and inion at the back of the head, euryon on the side. Second, 3D scan data provides easier and more exact measurement and shape than the head circumference based on the uni-dimensional measurements of head length and head width for making the master oval pattern. We suggest that measurements based on the 3D scan data should be used widely for pattern-making, especially in mass production of hats. Third, the richer and more flexible set of measurements based on the 3D scan data resulted in a better fit of hats with different designs. Forth, our four basic hat patterns(domed, cylinder, discus, and non-crown) served well for the development of various hat plans and designs.
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연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
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2026 | 평가예정 | 재인증평가 신청대상 (재인증) | |
2020-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (재인증) | KCI등재 |
2017-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (계속평가) | KCI등재 |
2013-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2010-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2007-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
2006-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) | KCI후보 |
2004-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
---|---|---|---|
2016 | 0.6 | 0.6 | 0.54 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.52 | 0.5 | 0.732 | 0.06 |
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