KCI등재
SCOPUS
접촉 압력 불균일성을 고려한 곡면 형상을 가지는 다층 구조 전자부품의 공정 장비 형상 파라미터 분석
저자
발행기관
학술지명
권호사항
발행연도
2019
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Korean
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등재정보
KCI등재,SCOPUS,ESCI
자료형태
학술저널
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215-221(7쪽)
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최근 반도체, 디스플레이 등 많은 전자 부품들은 다층으로 이루어져 있기 때문에 제작 중 수많은 접착 공정이 진행된다. 본 연구에서는 고무 패드의 압축 거동을 활용한 접착 공정에 대한 해석 및 파라미터분석을 수행하였다. 특히, 최근 커브드 디스플레이의 곡면부와 고무패드 형상의 불일치로 인해 불균일한 접촉 압력이 발생할 수 있는 상황에 대해 가정하여 해석을 진행하였다. 접촉 압력 불균일성에 영향을 줄 수 있는 인자를 선정하고, 실험계획법 중 하나인 직교 배열표를 이용하여 실험점을 배치하였다. 또한 유한요소프로그램인 ABAQUS를 통해 접촉 압력 불균일성 값을 확보하였고, 예측모델 식으로 얻은 접촉 압력불균일성 값과 유한요소해석의 접촉 압력 불균일성이 가장 작은 값으로 일치하는 것을 알 수 있었다. 본 연구를 통해서 불균일한 형상의 접착 공정에서 형상 파라미터 변화를 통해 접촉 압력 불균일성이 개선되는 것을 확인하였다.
더보기Recently, electronic components such as semiconductors and displays are made up of multiple layers; hence, many bonding processes occur during manufacturing. In this study, the simulation and parameter analysis of the compression process using the compressive behavior of rubber pads were performed. In particular, it was assumed that nonuniform contact pressure may occur due to mismatch between the curved part of the curved display and the shape of the rubber pad. The factors affecting contact pressure nonuniformity were selected, and the test points were arranged using the orthogonal array, which is one of the experimental design methods. The contact pressure nonuniformity value was obtained by the finite element method (FEM) program ABAQUS. The contact pressure nonuniformity value obtained from the predictive model and FEM correspond to the smallest values. This study confirms that contact pressure nonuniformity caused by the bonding process, which is a problem of curved displays, is improved by changing the shape of the rubber pad.
더보기분석정보
연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
---|---|---|---|
2023 | 평가예정 | 해외DB학술지평가 신청대상 (해외등재 학술지 평가) | |
2020-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (해외등재 학술지 평가) | KCI등재 |
2010-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2008-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2006-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2004-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2001-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
1998-07-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
---|---|---|---|
2016 | 0.27 | 0.27 | 0.25 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.24 | 0.23 | 0.506 | 0.06 |
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