KCI우수등재
SCOPUS
음극이 자동 정렬된 화산형 초미세 실리콘 전계방출 소자 제작
저자
고태영(Tae-Young Ko) ; 이상조(Sanjo Lee) ; 정복현(Bokeon Chung) ; 조형석(Hunsuk Cho) ; 이승협(Sunup Lee) ; 전동렬(D. Jeon)
발행기관
학술지명
권호사항
발행연도
1996
작성언어
Korean
등재정보
KCI우수등재,SCOPUS,ESCI
자료형태
학술저널
발행기관 URL
수록면
113-118(6쪽)
제공처
소장기관
음극 바늘과 게이트를 결합시킨 전계방출 소자에서 음극 바늘이 게이트 중앙에 정렬되는 것이 중요하다. 본 연구에서는 실리콘 전계방출 소자를 다음과 같이 제작하여 음극 바늘이 게이트 중앙에 자동으로 정렬되게 하였다. 실리콘 기판을 반응성 이온으로 식각하여 전계방출 음극 바늘을 형성한 뒤 표면을 실리콘 산화막으로 덮는다. 산화막 위에 게이트 금속막을 증착하고 두꺼운 감광막으로 덮은 다음 감광막 표면을 플라즈마로 적당히 태워서 바늘을 덮고 있는 게이트 금속의 끝 부분만 노출시킨다. 노출된 금속막과 게이트 밑의 산화막을 차례로 식각하여 실리콘 음극 바늘을 노출시킨 다음 표면에 남은 감광막을 제거하여 공정을 완료한다. 제작된 소자에서는 게이트 구멍이 화산의 분화구 모양이 되는데, 컴퓨터 시뮬레이션은 화산형 게이트가 평면 게이트보다 전계방출에 유리함을 보여주었다.
더보기Aligning a cathode tip at the center of a gate hole is important in gated field emission devices. We have fabricated a silicon field emitter using a following process so that a cathode and a gate hole are automatically aligned. After forming silicon tips on a silicon wafer, the wafer was covered with the SiO₂, gate metal, and photoresistive(PR) films. Because of the viscosity of the PR film, a spot where cathode tips were located protruded above the surface. By ashing the surface of the PR film, the gate metal above the tip apex was exposed when other area was still covered with the PR film. The exposed gate metal and subsequently the SiO₂ layer were selectively etched. The result produced a field emitter in which the gate film was in volcano shape and the cathode tip was located at the center of the gate hole. Computer simulation showed that the volcano shape emitter emited higher current and the electron beam which was focused better than the emitter for which the gate film was flat.
더보기서지정보 내보내기(Export)
닫기소장기관 정보
닫기권호소장정보
닫기오류접수
닫기오류 접수 확인
닫기음성서비스 신청
닫기음성서비스 신청 확인
닫기이용약관
닫기학술연구정보서비스 이용약관 (2017년 1월 1일 ~ 현재 적용)
학술연구정보서비스(이하 RISS)는 정보주체의 자유와 권리 보호를 위해 「개인정보 보호법」 및 관계 법령이 정한 바를 준수하여, 적법하게 개인정보를 처리하고 안전하게 관리하고 있습니다. 이에 「개인정보 보호법」 제30조에 따라 정보주체에게 개인정보 처리에 관한 절차 및 기준을 안내하고, 이와 관련한 고충을 신속하고 원활하게 처리할 수 있도록 하기 위하여 다음과 같이 개인정보 처리방침을 수립·공개합니다.
주요 개인정보 처리 표시(라벨링)
목 차
3년
또는 회원탈퇴시까지5년
(「전자상거래 등에서의 소비자보호에 관한3년
(「전자상거래 등에서의 소비자보호에 관한2년
이상(개인정보보호위원회 : 개인정보의 안전성 확보조치 기준)개인정보파일의 명칭 | 운영근거 / 처리목적 | 개인정보파일에 기록되는 개인정보의 항목 | 보유기간 | |
---|---|---|---|---|
학술연구정보서비스 이용자 가입정보 파일 | 한국교육학술정보원법 | 필수 | ID, 비밀번호, 성명, 생년월일, 신분(직업구분), 이메일, 소속분야, 웹진메일 수신동의 여부 | 3년 또는 탈퇴시 |
선택 | 소속기관명, 소속도서관명, 학과/부서명, 학번/직원번호, 휴대전화, 주소 |
구분 | 담당자 | 연락처 |
---|---|---|
KERIS 개인정보 보호책임자 | 정보보호본부 김태우 | - 이메일 : lsy@keris.or.kr - 전화번호 : 053-714-0439 - 팩스번호 : 053-714-0195 |
KERIS 개인정보 보호담당자 | 개인정보보호부 이상엽 | |
RISS 개인정보 보호책임자 | 대학학술본부 장금연 | - 이메일 : giltizen@keris.or.kr - 전화번호 : 053-714-0149 - 팩스번호 : 053-714-0194 |
RISS 개인정보 보호담당자 | 학술진흥부 길원진 |
자동로그아웃 안내
닫기인증오류 안내
닫기귀하께서는 휴면계정 전환 후 1년동안 회원정보 수집 및 이용에 대한
재동의를 하지 않으신 관계로 개인정보가 삭제되었습니다.
(참조 : RISS 이용약관 및 개인정보처리방침)
신규회원으로 가입하여 이용 부탁 드리며, 추가 문의는 고객센터로 연락 바랍니다.
- 기존 아이디 재사용 불가
휴면계정 안내
RISS는 [표준개인정보 보호지침]에 따라 2년을 주기로 개인정보 수집·이용에 관하여 (재)동의를 받고 있으며, (재)동의를 하지 않을 경우, 휴면계정으로 전환됩니다.
(※ 휴면계정은 원문이용 및 복사/대출 서비스를 이용할 수 없습니다.)
휴면계정으로 전환된 후 1년간 회원정보 수집·이용에 대한 재동의를 하지 않을 경우, RISS에서 자동탈퇴 및 개인정보가 삭제처리 됩니다.
고객센터 1599-3122
ARS번호+1번(회원가입 및 정보수정)