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반도체 제조공정의 포토레지스트 정량 토출 펌프에 관한 연구 = Study on the Photoresist Quantitative Emission Pump for Semiconductor Manufacturing Process
저자
박형근 (남서울대학교)
발행기관
학술지명
한국산학기술학회논문지(Journal of Korea Academia-Industrial cooperation Society)
권호사항
발행연도
2022
작성언어
Korean
주제어
등재정보
KCI등재
자료형태
학술저널
수록면
254-259(6쪽)
DOI식별코드
제공처
소장기관
This study developed a pump capable of emitting an expensive photoresist used in TRACK equipment of semiconductor photoresist material manufacturing on a wafer quantitatively and at constant pressure. Technically, the photoresist emission is required to be highly reliable without allowing a single error, even under the mass production of the semiconductor. In addition, semiconductor manufacturing lines continue to make efforts to reduce manufacturing costs and currently use a low photoresist volume of 0.8cc to 1.5cc to coat it on a 12-inch wafer. So, as the photoresist volume usage continues to decrease, the precision and accuracy of the quantitative emission and the cut-off/suck-back control are essential measures to improve the semiconductor yield. Along these lines, the pump developed in this study consisted of a cut-off/suck-back valve drive with an ultra-small diaphragm and a linear motor to achieve high semiconductor yield. In particular, for 5ml of the photoresist discharge, the ± 0.02ml of the existing Millipore Intelligent RDS pump showed the best quantitative photoresist emission characteristics within ±0.008ml and up to ±0.018ml.
더보기본 논문에서는 반도체 제조공정의 포토공정에 사용되는 TRACK 설비에서 고가의 포토레지스트를 웨이퍼에 정량 및 정압으로 토출할 수 있는 펌프를 제안하였다. 포토레지스트의 기술적 요구사항은 대량생산의 특성상 단한번의 오류도 허용되지 않는 높은 수준의 신뢰성을 요구하고 있다. 또한, 반도체 제조라인에서는 원가절감을 위해 지속적인 노력을 기울여 현재 12인치 웨이퍼 코팅을 기준으로 0.8cc~1.5cc의 포토레지스트를 사용하고 있다. 포토레지스트 사용량이 줄어들면서 정량토출 및 Cut-off/suck-back 제어의 정밀도와 정확성 향상이 수율 향상을 위한 대책으로 필수적이다. 제안된 펌프는 초소형 다이아프램과 리니어 모터를 이용한 Cut-off/Suck-back valve 구동장치로 구성되며, 5ml 토출을 기준으로 기존 Millipore사 Intelligen RDS 펌프의 ±0.02ml 이내 대비 최소 ±0.008ml 이내에서 최대 ±0.018ml 이내의 정량 특성을 나타내어 각 구간 측정 오차가 ±0.02ml 범위내에 포함됨을 확인하였다.
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