SCI
SCIE
SCOPUS
Evaluation of high grid strip densities based on the moiré artifact analysis for quality assurance: Simulation and experiment
저자
Je, U.K. ; Park, C.K. ; Lim, H.W. ; Cho, H.S. ; Lee, D.Y. ; Lee, H.W. ; Kim, K.S. ; Park, S.Y. ; Kim, G.A. ; Kang, S.Y. ; Park, J.E. ; Kim, W.S. ; Jeon, D.H. ; Woo, T.H.
발행기관
학술지명
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section A
권호사항
-
발행연도
2017
작성언어
-주제어
등재정보
SCI,SCIE,SCOPUS
자료형태
학술저널
수록면
58-64(7쪽)
제공처
<P><B>Abstract</B></P> <P>We have recently developed precise x-ray grids having strip densities in the range of 100 – 250 lines/inch by adopting the precision sawing process and carbon interspace material for the demands of specific x-ray imaging techniques. However, quality assurance in the grid manufacturing has not yet satisfactorily conducted because grid strips of a high strip density are often invisible through an x-ray nondestructive testing with a flat-panel detector of an ordinary pixel resolution (>100 μ m). In this work, we propose a useful method to evaluate actual grid strip densities over the Nyquist sampling rate based on the moiré artifact analysis. We performed a systematic simulation and experiment with several sample grids and a detector having a 143- μ m pixel resolution to verify the proposed quality assurance method. According to our results, the relative differences between the nominal and the evaluated grid strip densities were within 0.2% and 1.8% in the simulation and experiment, respectively, which demonstrates that the proposed method is viable with an ordinary detector having a moderate pixel resolution for quality assurance in grid manufacturing.</P> <P><B>Highlights</B></P> <P> <UL> <LI> The precise carbon-interspaced antiscatter grids have been studied. </LI> <LI> It is proposed for a useful method to evaluate actual grid strip densities over the Nyquist sampling rate based on the moiré artifact analysis. </LI> <LI> The simulation and experimental results demonstrate that the proposed method is viable with an ordinary detector having a moderate pixel resolution (>100 μ m) for quality assurance in grid manufacturing. </LI> </UL> </P>
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