KCI등재
SCOPUS
상용주파수 (60 Hz) 전원을 이용하여 발생시킨 수소 및 아르곤 플라스마의 광전기적 특성 연구 = Optical and Electrical Properties of Ar and H2 Plasmas Generated by Using a Low-frequency (60 Hz) Power Source
In this study, the properties of Ar and H2 plasmas generated by using a 60 Hz low-frequency (LF) power source were investigated. The characteristic property of the LF plasma can be described as its similarity to a bipolar pulsed discharge. The plasma resistance of the Ar and the H2 plasmas almost linearly decreased from 0.7 kΩ to ~0.4 kΩ and from ~40 kΩ to ~10 kΩ , respectively, with increasing gas pressure. This implies that the inner degree of freedom in the molecular gas plays a crucial role in determining the plasma properties and that the applied power does not transfer fully in a molecular discharge. In addition, the big difference in the plasmas generated using a LF and a 13.56 MHz radio-frequency (RF) power source can be summarized as a difference in molecular emissions, with the molecular emission in the LF plasma being weaker than the molecular emission in the RF plasma. This means that due to vibrations in the molecular gas, the energy transfer in a LF power source is more efficient in reducing the power dispatch.
더보기60 Hz 상용주파수 전원으로 발생시킨 Ar 플라스마와 H2 플라스마의 광전기적 특성을 조사하였다. 60 Hz LF (Low Frequency) 플라스마는 마치 극성을 띤 DC 펄스와 같은 형태의 방전이 연속적으로 발생하는 것이 특징이다. Ar 플라스마와 H2 플라스마의 방전 기체의 압력에 따른 플라스마 저항은 거의 선형적으로 각각 ~0.7kΩ에서 ~0.4 kΩ으로 및 ~40 kΩ에서 ~10 kΩ으로 감소하였다. 분자 기체인 H2의 경우 전기장으로부터 얻은 에너지의 많은 부분이 분자 내부의 진동 에너지로 변환되는데 이것은 입력 에너지의 손실을 의미한다. 또한 13.56 MHz RF (Radio Frequency) 전원으로 발생시킨 플라스마와 LF로 발생시킨 플라스마를 비교하면 LF 플라스마에서 분자 천이에 의한 분자 광방출 스펙트럼이 급격하게 줄어드는데 이는 주어진 에너지가 효율적으로 가스 방전에 전달됨을 간접적으로 의미한다.
더보기분석정보
연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
---|---|---|---|
2023 | 평가예정 | 해외DB학술지평가 신청대상 (해외등재 학술지 평가) | |
2020-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (해외등재 학술지 평가) | KCI등재 |
2016-09-05 | 학술지명변경 | 외국어명 : Sae Mulli(New Physics) -> New Physics: Sae Mulli | KCI등재 |
2015-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2011-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2009-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2007-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2004-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
2003-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) | KCI후보 |
2002-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 유지 (등재후보1차) | KCI후보 |
1999-07-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
---|---|---|---|
2016 | 0.18 | 0.18 | 0.17 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.15 | 0.14 | 0.3 | 0.1 |
서지정보 내보내기(Export)
닫기소장기관 정보
닫기권호소장정보
닫기오류접수
닫기오류 접수 확인
닫기음성서비스 신청
닫기음성서비스 신청 확인
닫기이용약관
닫기학술연구정보서비스 이용약관 (2017년 1월 1일 ~ 현재 적용)
학술연구정보서비스(이하 RISS)는 정보주체의 자유와 권리 보호를 위해 「개인정보 보호법」 및 관계 법령이 정한 바를 준수하여, 적법하게 개인정보를 처리하고 안전하게 관리하고 있습니다. 이에 「개인정보 보호법」 제30조에 따라 정보주체에게 개인정보 처리에 관한 절차 및 기준을 안내하고, 이와 관련한 고충을 신속하고 원활하게 처리할 수 있도록 하기 위하여 다음과 같이 개인정보 처리방침을 수립·공개합니다.
주요 개인정보 처리 표시(라벨링)
목 차
3년
또는 회원탈퇴시까지5년
(「전자상거래 등에서의 소비자보호에 관한3년
(「전자상거래 등에서의 소비자보호에 관한2년
이상(개인정보보호위원회 : 개인정보의 안전성 확보조치 기준)개인정보파일의 명칭 | 운영근거 / 처리목적 | 개인정보파일에 기록되는 개인정보의 항목 | 보유기간 | |
---|---|---|---|---|
학술연구정보서비스 이용자 가입정보 파일 | 한국교육학술정보원법 | 필수 | ID, 비밀번호, 성명, 생년월일, 신분(직업구분), 이메일, 소속분야, 웹진메일 수신동의 여부 | 3년 또는 탈퇴시 |
선택 | 소속기관명, 소속도서관명, 학과/부서명, 학번/직원번호, 휴대전화, 주소 |
구분 | 담당자 | 연락처 |
---|---|---|
KERIS 개인정보 보호책임자 | 정보보호본부 김태우 | - 이메일 : lsy@keris.or.kr - 전화번호 : 053-714-0439 - 팩스번호 : 053-714-0195 |
KERIS 개인정보 보호담당자 | 개인정보보호부 이상엽 | |
RISS 개인정보 보호책임자 | 대학학술본부 장금연 | - 이메일 : giltizen@keris.or.kr - 전화번호 : 053-714-0149 - 팩스번호 : 053-714-0194 |
RISS 개인정보 보호담당자 | 학술진흥부 길원진 |
자동로그아웃 안내
닫기인증오류 안내
닫기귀하께서는 휴면계정 전환 후 1년동안 회원정보 수집 및 이용에 대한
재동의를 하지 않으신 관계로 개인정보가 삭제되었습니다.
(참조 : RISS 이용약관 및 개인정보처리방침)
신규회원으로 가입하여 이용 부탁 드리며, 추가 문의는 고객센터로 연락 바랍니다.
- 기존 아이디 재사용 불가
휴면계정 안내
RISS는 [표준개인정보 보호지침]에 따라 2년을 주기로 개인정보 수집·이용에 관하여 (재)동의를 받고 있으며, (재)동의를 하지 않을 경우, 휴면계정으로 전환됩니다.
(※ 휴면계정은 원문이용 및 복사/대출 서비스를 이용할 수 없습니다.)
휴면계정으로 전환된 후 1년간 회원정보 수집·이용에 대한 재동의를 하지 않을 경우, RISS에서 자동탈퇴 및 개인정보가 삭제처리 됩니다.
고객센터 1599-3122
ARS번호+1번(회원가입 및 정보수정)