1MeV 인 이온 주입시 RTA에 의한 미세결함 특성과 latch-up 면역에 관한 구조 연구 = A Study on the Micro-defects Characteristics and Latch-up Immune Structure by RTA in 1MeV P Ion Implantation
저자
노병규 ; 윤석범 ; Roh, Byeong-Gyu ; Yoon, Seok-Beom
발행기관
학술지명
권호사항
발행연도
1998
작성언어
Korean
주제어
자료형태
학술저널
수록면
101-107(7쪽)
KCI 피인용횟수
0
제공처
인(Phosphorus)을 1MeV로 이온 주입한 후 RTA를 실시하여 미세결함의 특성을 조사하고, 면저항, SRP, SIMS, XTEM 분석과 CMOS 구조에서 래치업 특성을 모의 실험하였다. 도즈량이 증가할수록 면저항은 낮아지고, Rp값은 도즈량이 $1{\times}10^{13}/cm^2,\;5{\times}10^{13}/cm^2,\;1{\times}10^{14}/cm^2$일때 각각 $1.15{\mu}m,\;1.15{\mu},\;1.10{\mu}m$로 나타났다. SIMS 측정결과는 열처리 시간이 길수록 농도의 최대치가 표면으로부터 깊어지고, 농도 또한 낮아짐을 확인하였다. XTEM 분석 결과는 열처리 전에는 결함측정이 불가능했으나, 측정되지 많은 미세결함이 열처리 후 이차결함으로 성장한 것으로 조사되었다. 모의 실험은 buried layer와 connecting layer 구조를 사용하였으며, buried layer보다 connecting layer가 래치업 특성이 우수함을 확인하였다. Connecting layer의 도즈량이 $1{\times}10^{14}/cm^2$이고 이온주입 에너지가 500KeV일 때 trigger current는 $0.6mA/{\mu}m$이상이었고, trigger voltage는 약 6V로 나타났다. Connecting layer의 이온주입 에너지가 낮을수록 래치업 저감효과가 더욱 우수함을 알 수 있었다.
더보기This paper is studied micro-defect characteristics by phosphorus 1MeV ion implantation and Rs, SRP, SIMS, XTEM for the RTA process was measured and simulated. As the dose is higher, the Rs is lower. When the dose are $1{\times}10^{13}/cm^2,\;5{\times}10^{13}/cm^2,\;1{\times}10^{14}/cm^2$, the Rp are $1.15{\mu}m,\;1.15{\mu},\;1.10{\mu}m$ respectively. As the RTA time is longer, the maximum concentration position is deeper from the surface and the concentration is lower. Before the RTA was done, we didn't observe any defect. But after the RTA process was done, we could observe the RTA process changed the micro-defects into the secondary defects. The simulation using the buried layer and connecting layer structure was performed. As results, the connecting layer had more effect than the buried layer to latch-up immune. Trigger current was more $0.6mA/{\mu}m$ and trigger voltage was 6V at dose $1{\times}10^{14}/cm^2$ and the energy 500KeV of connecting layer Lower connecting layer dose, latch-up immune characteristics was better.
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2005-10-17 | 학술지명변경 | 외국어명 : 미등록 -> Journal of IKEEE | KCI후보 |
2005-05-30 | 학술지등록 | 한글명 : 전기전자학회논문지외국어명 : 미등록 | KCI후보 |
2005-03-25 | 학회명변경 | 한글명 : (사) 한국전기전자학회 -> 한국전기전자학회영문명 : 미등록 -> Institute of Korean Electrical and Electronics Engineers | KCI후보 |
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2004-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 FAIL (등재후보1차) | KCI후보 |
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