전자빔 증착을 위한 소결체 지르코니아 제조
저자
오윤석(Yoonsuk Oh) ; 한윤수(Yoonsoo Han) ; 채정민(Jungmin Chae) ; 김성원(Seongwon Kim) ; 이성민(Sungmin Lee) ; 안종기(Jongkee Ahn) ; 김태형(Taehyung Kim) ; 김홍규(Hongkyu Kim)
발행기관
학술지명
권호사항
발행연도
2014
작성언어
Korean
주제어
자료형태
학술저널
수록면
44-49(6쪽)
제공처
전자빔 물리기상증착(EB PVD, Electron Beam Physical Vapor Deposition) 기술은 발전용 터빈이나 항공용 터빈엔진등에 사용되는 열차폐 코팅(TBC, Thermal Barrier Coating)을 제조하는 선진 코팅기술중의 하나이다. 본 연구에서는 전자빔 증착용 코팅소스로서 활용하기 위한 잉곳의 미세구조, 밀도, 상형성 조건을 확보하기 위하여, 8 wt% (4 ㏖%) 의 이트리아 (Y2O3)가 안정화제로 첨가된 지르코니아 (8YSZ) 조성의 잉곳을 다양한 분말입도, 성형 및 열처리 조건으로 제조하여 전자빔에 의한 충격 저항성을 고찰하였다. 입도가 큰 분말(~40㎛)과 작은 분말(~40㎚)의 혼합체인 Bi-modal 구조의 잉곳이 미세한 크기의 단일 입도의 분말로 제조된 고밀도 잉곳에 비해 상대적으로 높은 전자빔 충격저항성을 보였으며, 이중 조대입자의 비율이 80% 조건의 잉곳에서 초기 융탕형성이 확인되었다.
더보기Electron beam (EB) evaporation method is being studied as one of the substitutions for fabrication method of thermal barrier coating due to its higher structural stability than conventional plasma spray method. During the EB process, usually the source materials are exposed to high power electron beam with focused area. Therefore the material sources for EB process are needed to form as ingot with appropriate density and microstructure to sustain their shape and stable melts status. In this study we tried to find the optimum condition of fabrication process for the ingot of 8 wt%(4 ㏖%) yttria stabilized zirconia to obtain uniform and thick film by EB evaporation. It seems that the ingot fabricated by bi-modal structure of initial particles, composed of ~40㎛ and ~40㎚, was shown better performance to obtain stable green body than that fabricated using simple ㎚ scale particles when exposed to high power EB. In case of the ingot with 80% of large particles, the formation of initial melt was found on the top of ingot.
더보기서지정보 내보내기(Export)
닫기소장기관 정보
닫기권호소장정보
닫기오류접수
닫기오류 접수 확인
닫기음성서비스 신청
닫기음성서비스 신청 확인
닫기이용약관
닫기학술연구정보서비스 이용약관 (2017년 1월 1일 ~ 현재 적용)
학술연구정보서비스(이하 RISS)는 정보주체의 자유와 권리 보호를 위해 「개인정보 보호법」 및 관계 법령이 정한 바를 준수하여, 적법하게 개인정보를 처리하고 안전하게 관리하고 있습니다. 이에 「개인정보 보호법」 제30조에 따라 정보주체에게 개인정보 처리에 관한 절차 및 기준을 안내하고, 이와 관련한 고충을 신속하고 원활하게 처리할 수 있도록 하기 위하여 다음과 같이 개인정보 처리방침을 수립·공개합니다.
주요 개인정보 처리 표시(라벨링)
목 차
3년
또는 회원탈퇴시까지5년
(「전자상거래 등에서의 소비자보호에 관한3년
(「전자상거래 등에서의 소비자보호에 관한2년
이상(개인정보보호위원회 : 개인정보의 안전성 확보조치 기준)개인정보파일의 명칭 | 운영근거 / 처리목적 | 개인정보파일에 기록되는 개인정보의 항목 | 보유기간 | |
---|---|---|---|---|
학술연구정보서비스 이용자 가입정보 파일 | 한국교육학술정보원법 | 필수 | ID, 비밀번호, 성명, 생년월일, 신분(직업구분), 이메일, 소속분야, 웹진메일 수신동의 여부 | 3년 또는 탈퇴시 |
선택 | 소속기관명, 소속도서관명, 학과/부서명, 학번/직원번호, 휴대전화, 주소 |
구분 | 담당자 | 연락처 |
---|---|---|
KERIS 개인정보 보호책임자 | 정보보호본부 김태우 | - 이메일 : lsy@keris.or.kr - 전화번호 : 053-714-0439 - 팩스번호 : 053-714-0195 |
KERIS 개인정보 보호담당자 | 개인정보보호부 이상엽 | |
RISS 개인정보 보호책임자 | 대학학술본부 장금연 | - 이메일 : giltizen@keris.or.kr - 전화번호 : 053-714-0149 - 팩스번호 : 053-714-0194 |
RISS 개인정보 보호담당자 | 학술진흥부 길원진 |
자동로그아웃 안내
닫기인증오류 안내
닫기귀하께서는 휴면계정 전환 후 1년동안 회원정보 수집 및 이용에 대한
재동의를 하지 않으신 관계로 개인정보가 삭제되었습니다.
(참조 : RISS 이용약관 및 개인정보처리방침)
신규회원으로 가입하여 이용 부탁 드리며, 추가 문의는 고객센터로 연락 바랍니다.
- 기존 아이디 재사용 불가
휴면계정 안내
RISS는 [표준개인정보 보호지침]에 따라 2년을 주기로 개인정보 수집·이용에 관하여 (재)동의를 받고 있으며, (재)동의를 하지 않을 경우, 휴면계정으로 전환됩니다.
(※ 휴면계정은 원문이용 및 복사/대출 서비스를 이용할 수 없습니다.)
휴면계정으로 전환된 후 1년간 회원정보 수집·이용에 대한 재동의를 하지 않을 경우, RISS에서 자동탈퇴 및 개인정보가 삭제처리 됩니다.
고객센터 1599-3122
ARS번호+1번(회원가입 및 정보수정)