KCI등재
SCOPUS
SCIE
Sulphur dioxide plasma modification on poly(methyl methacrylate) for fluidic devices
저자
Atsunori Hiratsuka (Japan) ; Hiroyuki Fukui (Japan) ; Yoshio Suzuki (Japan) ; Hitoshi Muguruma (Japan) ; Koji Sakairi (Japan) ; Toshiyuki Matsushima (Japan) ; Yuji Maruo (Japan) ; Kenji Yokoyama (Japan)
발행기관
학술지명
권호사항
발행연도
2008
작성언어
English
주제어
등재정보
KCI등재,SCOPUS,SCIE
자료형태
학술저널
수록면
198-205(8쪽)
KCI 피인용횟수
5
제공처
We developed a sulphur dioxide plasma modication on a poly(methyl methacrylate) (PMMA) material for uidic electrophoresisdevices. The inner surface of the PMMA channel of a chip was modied by using sulphur dioxide plasma treatment. Contact angle mea-surements indicated that the buer solutions were able to ll the capillary because of the hydrophilic property of the internal surface ofthe chip. XPS analysis indicated that the sulphur dioxide plasma treatment introduced a negative charge originating from the dissoci-ation of the hydrogen atoms of sulphonic groups. Since this introduced a negative charge originating from strong acid sulphonic groupsonto the surface of the channel, the electroosmotic ow (EOF) was observed to be large (~7×10-⁴m²V-¹ s-¹) and stable over a widerange of pH (410). The chip was fabricated by using plastic injection moulding methods for enabling the mass fabrication and dispos-able use of chips. The separation method is based on the net electric charge of the material, which enables the separation of identicalsamples on the basis of both isoelectric points and molecular weight. Two synthetic peptides with similar isoelectric points and molecularweights but dierent net charges were selected as model protein samples for the separation. The sample peptides were detected underuorescence microscopy. The resulting electropherograms obtained by using the sulphur dioxide plasma-treated PMMA chip demon-strated that the two peptides were separated and that the migration time of the peptides was correlated with the net charge.
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연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
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2023 | 평가예정 | 해외DB학술지평가 신청대상 (해외등재 학술지 평가) | |
2020-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (해외등재 학술지 평가) | KCI등재 |
2008-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
2007-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) | KCI후보 |
2003-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
---|---|---|---|
2016 | 1.8 | 0.18 | 1.17 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.92 | 0.77 | 0.297 | 0.1 |
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