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단채널 MOSFET의 열잡음 모델링을 위한 잡음 파라메터의 분석과 추출방법 = Analysis and extraction method of noise parameters for short channel MOSFET thermal noise modeling
저자
김규철 (목포해양대학교) ; Kim, Gue-Chol
발행기관
학술지명
한국정보통신학회논문지(Journal of the Korea Institute Of Information and Communication Engineering)
권호사항
발행연도
2009
작성언어
Korean
등재정보
KCI등재
자료형태
학술저널
발행기관 URL
수록면
2655-2661(7쪽)
KCI 피인용횟수
2
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제공처
단채널 MOSFET의 열잡음 모델링을 위한 정밀한 잡음 파라메터를 유도하고 추출했다. MOSFET의 잡음 파라메터를 계산하기 위한 Fukui모델을 단채널에서의 기생성분의 영향을 고려하여 수정하였고, 기존의 모델식과 비교하였다. 또한 소자 고유의 잡음원을 얻기 위해서 서브마이크론 MOSFET의 잡음 파라메터(최소잡음지수 $F_{min}$, 등가잡음 저항 $R_n$, 최적 소스어드미턴스 $Y_{opt}=G_{opt}+B_{opt}$)를 추출하는 방법을 제시하였다. 이러한 추출방법을 통하여 프로브패드의 영향과 외부기생소자 영향을 제거한 MOSFET 고유의 잡음 파라메터가 RF잡음측정으로부터 직접 얻어지게 된다.
더보기In this paper, an accurate noise parameters for thermal noise modeling of short channel MOSFET is derived and extracted. Fukui model for calculating the noise parameters of a MOSFET is modified by considering effects of parasitic elements in short channel, and it is compared with conventional noise model equation. In addition, for obtaining the intrinsic noise sources of devices, noise parameters(minimum noise figure $F_{min}$, equivalent noise resistance $R_n$ optimized source admittance $Y_{opt}=G_{opt}+B_{opt}$) in submicron MOSFETs is extracted. With this extraction method, the intrinsic noise parameters of MOSFET without effects of probe pad and extrinsic parasitic elements from RF noise measurements can be directly obtained.
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연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
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2013-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2011-11-23 | 학술지명변경 | 외국어명 : THE JOURNAL OF The KOREAN Institute Of Maritime information & Communication Science -> Journal of the Korea Institute Of Information and Communication Engineering | KCI등재 |
2011-11-16 | 학회명변경 | 영문명 : International Journal of Information and Communication Engineering(IJICE) -> The Korea Institute of Information and Communication Engineering | KCI등재 |
2011-11-14 | 학회명변경 | 한글명 : 한국해양정보통신학회 -> 한국정보통신학회영문명 : 미등록 -> International Journal of Information and Communication Engineering(IJICE) | KCI등재 |
2010-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2008-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2005-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
2004-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) | KCI후보 |
2002-07-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
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2016 | 0.23 | 0.23 | 0.27 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.24 | 0.22 | 0.424 | 0.11 |
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