전류밀도 향상을 위한 금속 산화물 피막 제조에 관한 연구 = Study On The Processing of Metal Oxides Coating For the Improvement Of Current Density
저자
발행기관
학술지명
자연과학연구 논문집(JOURNAL OF NATURAL SCIENCE RESEARCH INSTITUTE FOR NATURAL SCIENCE)
권호사항
발행연도
2000
작성언어
Korean
KDC
570.000
자료형태
학술저널
수록면
83-92(10쪽)
제공처
소장기관
구조물의 부식을 저감시키기 위한 재료로 사용되려면 전기 전도성이 좋아야 하며, 여러 산업환경에 적용될 수 있도록 내식성이 뛰어나야한다. 이리 듐-루테늄 산화물 피막은 이러한 성질을 만족시키는 물질로, 이들 산화물 피막 의 성질은 대개 양극 제조 공정에 의해 크게 좌우되므로 본 연구에서는 전류 밀도 향상을 위한 제조 공정을 최적화하고자 하였다. Dip-coating법으로 전도성 코팅층인 이리듐-루테늄 산화물 피막을 기지금속인 티타늄 위에 피복 시키는데, 이 코팅층의 내식성 향상을 위해서 다구치 방법을 도입하여 최적 공정 조건을 구하였다. 이때 사용된 변수는 전처리 방법, 열처리 온도, 열처리시 주입 가스량, 열처리 시간으로 이들 변수를 3가지로 변화시켜 실험하였다. 실험결과 이리듐-루테늄 산화물 피막 제조시 기판위에 티타늄산화물 중간층을 plasma spray법으로 제조하고, 열처리 온도 450℃, 주입가스량 3sccm, 열처리시간을 120분으로 하였을 때 방식전류밀도가 가장 우수한 코팅층(활성화 코팅층)을 얻었다.
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