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식스 시그마 기법을 활용한 입체 영상 센서용 광학 필터의 개발 = Development of Optical Filters for 3D Image Sensor Application by Employing the Six Sigma Methodology
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학술지명
차세대컨버전스정보서비스기술논문지(Journal of Next-generation Convergence Information Services Technology)
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2019
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Korean
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KCI등재
자료형태
학술저널
수록면
375-384(10쪽)
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Six Sigma methodologies can be used not only for quality control and solving the management problem of production lines, but also for research and development of novel products. In this paper, we describe the design and fabrication of optical filters, which are essential for the realization of three-dimensional(3D) CMOS image sensor using Six Sigma methodology. The DMAIC process was applied as a Six Sigma roadmap. Optical filters for the 3D CMOS image sensor consist of an infrared(IR) cut filter and an IR pass filter, and various filter combinations can be optically designed according to the required light-receiving wavelength band. Macleod program was used for optical design of the IR filters. In addition, an IR cut filter was fabricated using a standard CMOS-compatible processes such as RF magnetron sputtering by multilayer stacking of thin films composed of SiO2 and TiO2 inorganic materials.
더보기식스 시그마 기법은 생산현장의 품질관리, 경영관리 뿐만 아니라 연구개발에도 유용하게 사용할 수 있다. 본 논문에서는 식스 시그마 방법론을 활용하여 3차원 입체 영상을 얻을 수 있는 CMOS 영상 센서의 구현에 필수적인 광학 필터의 설계 및 개발에 대하여 연구한 결과를 기술한다. 식스 시그마 방법론으로서는 일반적으로 사용되는 DMAIC 프로세스를 적용하였다. CMOS 영상 센서용 광학 필터는 근적외선 투과 필터와 근적외선 차단 필터가 있는데, 필요로 하는 수광 파장대에 따라 다양한 필터 조합의 설계가 가능하며, 근적외선 필터의 광학설계를 위하여 Macleod program을 사용하였다. 또한 SiO2와 TiO2 다층 박막의 적층을 위하여 RF 마그네트론 스퍼터링 등 CMOS 반도체 표준공정에 적합한 제작 공정을 이용하여 근적외선 차단 필터를 구현하였다.
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