기계연마에 기인한 Pd(100)의 표면 지형에 대한 AFM 분석 = AFM Analysis of Surface Topography of Pd(100) Caused by Mechanical Polishing
저자
박현주 (동아대학교 자연과학대학 신소재 물리학과) ; 정경한 (동아대학교 자연과학대학 신소재 물리학과) ; 추명석 (동아대학교 자연과학대학 신소재 물리학과) ; 진원배 (동아대학교 자연과학대학 신소재 물리학과)
발행기관
동아대학교 기초과학연구소(The Basic Sciences Research Institute of Dong-A University)
학술지명
권호사항
발행연도
2001
작성언어
Korean
KDC
405.000
자료형태
학술저널
수록면
19-27(9쪽)
제공처
기계 연마에 기인하는 Pd(100) 표면의 지형 및 연마과정 중에 행해지는 표면 세척방법에 따라 표면 거칠기에 미치는 영향을 AFM으로 조사하였다.
연마 입자의 크기별로 순차적으로 3, 1, 0.1, 0.04 ㎛의 입자로 연마를 수행하였다. 연마의 매 단계마다 시료 표면에 남아있는 연마제를 제거하기 위하여 시료 표면을 단순히 흐르는 물로 세척하는 경우와, 흐르는 물에서 솜으로 세척하는 경우의 표면 거칠기를 비교한 결과, 제곱평균 제곱근에 의한 표면 거칠기는 5×5 ㎛2의 주사영역에서 평균적으로 각각 1.61, 1.08, 0.82 nm 정도의 차이로, 후자의 경우가 훨씬 효과적임을 보여주었다. 이러한 사실로부터 단순히 흐르는 물에 의한 세척으로는 연마의 전 단계에서 사용된 연마 입자들이 표면상에서 완전히 제거되지 않고 다음 단계의 연마 결과에 영향을 미친다는 것을 알 수 있었다.
또한 연마과정 중 bulk로부터 빠져 나온 것으로 보이는 알갱이들이 연마입자에 의해서 발생하는 스크래치의 가장자리를 따라 흡착되어 있는 것이 관측되었다.
The effect of surface cleaning performed at every step of mechanical polishing process on surface roughness was investigated with AFM surface topography. Diamond suspensions with grain sizes of 3, 1, 0.1 ㎛ and colloidal silica of 0.04 ㎛ for final polishing were used as abrasive in turn.
When the specimen was cleaned with only flowing water at each polishing step, some part of particles remained on the specimen after cleaning. These remaining particles gave rise to relatively pronounced scratches on the surface during the subsequent polishing step, In the other hand, in the case cleaned with a soft wool in flowing water, it was showed that the remaining particles were removed almost all. The lower degree of rms-surface roughness in the latter case compared to that of the former case was obtained, as the differences of rms-surface roughness between both cases were on an average 1.6 nm,1.1 nm, and 0.8nm, respectively, for an area of 5×5 ㎛2 after polishing with 1, 0.1, and 0.04㎛ grain size.
In addition, it was found that particles are deposited at the edges of the scratches, which are probably Pd particles removed by the mechanical polishing.
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