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나노 분말 타겟을 사용하여 고주파 마그네트론 스퍼터링 방법에 의해 제작된 ITO 박막의 투명전도 특성 = Tramsparent conducting properties of ITO films prepared by rf-magnetron sputtering method using a nano powder target.
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2005
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KCI등재,SCOPUS
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391-396(6쪽)
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ITO films were deposited on glass substrates by using rf-magnetron
sputtering method and a powder with nano sized particles. A mixed
In$_2$O$_3$ and SnO$_2$ nano powder with a composition ratio 90
:10 wt.\% was calcined at 1,000 $^\circ$C in air for 2 hours and
was used as a target. For the ITO (n-ITO) films deposited from
this nano powder target, the electrical, the optical and the
microstructural properties were investigated. These results were
also compared to those of ITO (m-ITO) films prepared using a
powder with micron sized particle. The n-ITO films deposited at
room temperature in pure Ar gas were amorphous and showed a low
resistivty of 3.7 $\times$ 10$^{-4}$ $\Omega \cdot$cm and a high
average transmittance over 85 \% in the visible range. The
resistivity and the transmittance were more enhanced than those of
m-ITO films with microcrystalline structures. The enhanced
electrical and optical properties are believed to be attributed to
the greatly reduced surface roughness of the n-ITO films. We
expect ITO films deposited by using a nano powder target to show
more enhanced electrical and optical properties, the surface
roughness, the densites, and the adhesions to substrate in
comparison with those deposited by using micron powder-target.
나노 분말 타겟을 사용하여 고주파 마그네트론 스퍼터링 방법에 의한 ITO
(n-ITO)박막을 성막하였다. 스퍼터용 타겟은 나노 입자로 구성된
In$_2$O$_3$ 와 SnO$_2$ 의 분말을 90 : 10 wt.\%로 혼합하여, 1200
kg$\cdot$weightN/cm$^2$의 압력으로 압착한 후, 1,000 $^\circ$C에서
2시간 동안 소결하여 제작하였다. 성막된 ITO 박막들에 대해서는 전기적
및 광학적 특성과 표면미세구조 특성을 조사하고, 그 결과들을 기존의
마이크론 크기의 분말 타겟으로부터 성막된 ITO (m-ITO) 박막과
비교하였다. 상온의 순수한 Ar 가스 분위기에서 성막된 n-ITO 박막은
비정질 구조를 가지며, 3.9 $\times$ 10$^{-4}$ $\Omega \cdot$cm의
비저항을 나타내는데, 이는 미세결정 구조로 성막되는 m-ITO 박막의
비저항보다 약간 낮은 값으로 나타났다. 또한 n-ITO 박막은 동일한
두께를 갖는 m-ITO 박막에 비해 가시광 영역에서의 투과도 역시 약간
향상될 뿐만 아니라, 광학적 띠 간격 (optical band gap)과 굴절률도
약간 증가하는 것으로 나타났다. 이와 같은 n- ITO 박막의 향상된 전기적
특성과 광학적 특성은 n-ITO 박막이 m-ITO 박막에 비해 현저하게 개선된
표면조도 (surface roughness)와 밀접한 관계가 있음을 보여준다.
분석정보
연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
---|---|---|---|
2023 | 평가예정 | 해외DB학술지평가 신청대상 (해외등재 학술지 평가) | |
2020-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (해외등재 학술지 평가) | KCI등재 |
2016-09-05 | 학술지명변경 | 외국어명 : Sae Mulli(New Physics) -> New Physics: Sae Mulli | KCI등재 |
2015-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2011-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2009-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2007-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2004-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
2003-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) | KCI후보 |
2002-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 유지 (등재후보1차) | KCI후보 |
1999-07-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
---|---|---|---|
2016 | 0.18 | 0.18 | 0.17 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.15 | 0.14 | 0.3 | 0.1 |
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