고밀도 환경을 요하는 반도체 공장에서의 미진동 해석에 관한 연구 = A Study on the Micro-Vibration Analysis which Need High Precision Condition in Semi-Conductor Factory
저자
발행기관
漢陽大學校 環境科學硏究所(Research Institute for Environmental Sciences Hanyang University)
학술지명
권호사항
발행연도
1989
작성언어
Korean
KDC
539.9
자료형태
학술저널
수록면
37-52(16쪽)
제공처
소장기관
본 연구에서는 미진의 영향을 감소시키기 위하여 반도체 공장에서의 지반진동 특성을 파악하고 효과적인 진동저감 대책의 자료를 제시하였다. 측정결과에 의하면 고도의 청정도를 유지하기 위한 대형동력기 및 냉각탑이 옥상에 설치되어 있고 전기를 공급하는 전기실등 동력실이 지하실에 설치되어 있어 결국 상·하에 진동원이 존재하는 결과가 되고 있다. 또한 현재 가동중인 건물 정면 약 20m 위치에 공장전체에 동력 (Compressor 5. ) 을 공급하는 중앙공급실(동력원)이 위치하고 있어 주진동원이 된다고 생각되며 실제 새로운 공장이 위치할 부지에서는 중앙공급실에서 발생하는 20Hz 성분이 예정부지에도 나타나고 있음을 알 수 있다.
In this study, to reduce the effect of micro-vibration seized the characteristics of ground vibration in semiconductor factory and presentated the effective counterplan. As a result of survey a large sized power equipment was situated on the roof and electrical equipment was located in the basement. So vibration source was located in top and bottom. Central power equipment that supplied the all over the factory was located infront of Main factory. So it looks main source and the components of 20Hz at central power equipment was also appeared at a plan site.
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