마이크로 가스유량 센서의 제조와 동작 특성 = Fabrication of Micro Gas-Flow Sensor and Operational Characteristics
저자
발행기관
濟州大學校工科大學産業技術硏究所(Research Institute of Advanced Technology, Cheju National University)
학술지명
尖端技術硏究所論文集(JOURNAL OF RESEARCH INSTITUTE OF ADVANCED TECHNOLOGY)
권호사항
발행연도
1996
작성언어
Korean
주제어
KDC
504
자료형태
학술저널
수록면
123-132(10쪽)
제공처
소장기관
Micro gas-flow sensor is fabricated using a microfabrication technology and micromachining techniques. An NON insulated film with low thermal conductivity and low internal stress is deposited by using LPCVD and APCVD process. As the micromachining technology, characteristics of silicon wet anisotropic etching are investigated. Experimental variations for (100) etch rate observation are following ; (1) TMAH concentrations in water (3∼25wt.%), (2) etch temperatures (80∼90℃). The etch rates for (100) silicon increases with increasing etch temperature and with decreasing TMAH wt.% concentration. Platinum thin films are deposited on the NON film by rf sputtering and lift-off method. Micro gas-flow sensor combined with platinum film heater and temperature detector is fabricated. And its operational characteristics are measured in the range of 0∼500sccm of nitrogen gas flow-rate. The gas-flow sensor have been shown a good linear relationship between the oxygen content in helium and the resistance of temperature detector within 0 to 18mol% of the oxygen contents. with the constant total flow-rate of 225sccm.
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