나노임프린트를 이용한 인조 나방눈 모사 반사방지막 제작 기술
저자
최대근(Dae-Geun Choi) ; 이기중(Ki-Jung Lee) ; 정준호(Jun-Ho Jeong) ; 김기돈(Ki-Don Kim) ; 최준혁(Jun-Hyuk Choi) ; 이지혜(Jihye Lee) ; Altun Ali ; 이응숙(Eung-Sug Lee)
발행기관
학술지명
권호사항
발행연도
2008
작성언어
Korean
주제어
KDC
550
자료형태
학술저널
발행기관 URL
수록면
13-17(5쪽)
제공처
Nanoimprint (NIL) is an attracting next-generation lithography because of its merits in nanometer-scale high resolution and low process cost, and mass production. One of the useful applications using NIL is the fabrication of antireflective structure (ARS) which has a sub-wavelength nanostructure below wavelength of visible light similar to moth-eye. The efficient fabrication method of ARS is commercially valuable because it can be used in anti-glare monitor, car dashboards, and solar cells. In this work, we fabricated various nanopatterns and investigated the effect of AR on each pattern by using nanoimprint lithography. The used Ni master of pitch of 250㎚ and depth of 230㎚ was used. Nanoscale flexible PDMS molds and UV-curable PUA(polyurethane acrylate) molds were successfully replicated from Ni master. We will also present a low-cost fabrication method of nano-scale mold using plasma-induced polymer nanograss.
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