새로운 세정 Bath Type 의 제안 및 유동현상해석에 따른 타당성 평가 = The analysis of fluid mechanical phenomena and feasibility test of novel wafer cleaniong type
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학술지명
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발행연도
2000
작성언어
Korean
KDC
552
자료형태
학술저널
수록면
121-126(6쪽)
제공처
기존의 bath가 가지고 있는 문제점을 해결하기 위해 tapered manifold의 유체배출 흐름 특성을 살펴보고 가시화 기법을 이용하여 2면 overflow방식의 bath 내부 flow pattern을 살펴보았다. 그 결과 4면 overflow 방식에 비해 균일한 흐름이 얻어졌으며 치우침현상도 개선된 형태를 보여주었다. 또한 bath 내에 rod를 장착하는 rod upflow 방식이 제안하여 이에 대한 simulation을 수행하였다.
이 경우에 있어서 중요한 공정변수로는 bath 내 rod와 rod 간의 간격, inlet의 너비, rod와 bath와의 간격 등이다. 먼저 inlet 이 4곳인 겨우2-D simulation 결과 벽면쪽 inlet 에서만 흐름이 있는 경우 bath 내에서 균일한 흐름을 얻을 수가 있었다. 이를 바탕으로 하여 2-D simulation 에서 안쪽의 rod로 인해 보였던 와류 (vortex) 현상을 개선하고자 inlet이 2곳인 경우 3-D simulation을 수행하였으나 큰 소용돌기가 생겼고 flow pattern이 균일하지 못했다. 이에 inlet 이 균일하지 못했다. 이에 inlet 이 4곳인 새로운 bath를 제안하여 simulation 을 수행한 결과 벽면쪽 inlet 에서 도입유량이 60 ℓ이고, rod와 rod 사이의 거리는 2mm, rod의 지름이 10mm, inlet의 너비는 1mm, bath와 rod 사이의 간격이 2mm인 경우에 wafer가 위치한 곳에서 large size vortex로 인해 전체적으로 균일한 흐름이 얻어 졌다.
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