냄새 원인 물질 규명을 위한 GC/FID/FPD/ODP 개발
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발행연도
2021
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Korean
자료형태
학술저널
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115-115(1쪽)
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학회 요청에 의해 무료로 제공
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냄새를 유발하는 원인 물질은 여러 성분을 포함하고 있으며 이와 관련된 원자는 산소, 질소, 황이 있다. 이러한 성분은 GC/MS, GC/FID, GC/FID 등의 분석기기를 통해 물질의 분자량이나 성분의 함량을 정량적으로 표현할 수 있지만 냄새를 발생시키는 주된 물질에 대해 알 수 없다는 어려움이 있다. 따라서 본 연구에서는 사람의 후각과 기기를 접목하여 냄새원인물질의 강도를 표현하고, 세 개의 검출기의 피크비교를 통해 결과를 동시 분석하여 냄새가 발생하는 물질의 원인이 되는 성분을 정량적으로 검출하고 그 냄새의 강도와 특징을 알 수 있는 확률을 보다 높일 수 있는 기기를 개발하였다.
FID는 모든 유기화합물에 민감하며 일반적으로 탄화수소에 대해서 감도가 가장 높고 MS와 비슷한 패턴을 이용하여 비교할 수 있으며, FPD는 황 화합물에 대하여 선택적으로 높은 감도를 나타내기 때문에 냄새원인 물질인 O, N, S 중 냄새를 많이 발생하는 황 검출에 용이하다. ODP는 사람의 후각을 이용하여 냄새 강도를 나타낼 수 있기 때문에, GC 분리 컬럼의 출구에 시료 분배 장치인 crosspiece를 이용하여 분리된 시료가 세 가지 검출기에 도달하도록 하였다. 그리고 dead volume을 없애기 위해 DUB-1-S(Bulkhead union 1/16 “)을 사용하여 제작하였으며 짧은 컬럼을 사용하여 검출시간을 줄였다.
ODP는 sniffing port, humidifier, ODP 신호기로 이루어져 있으며 1/8“ SS Union을 이용하여 OVEN속 컬럼의 온도와 밖으로 나온 ODP 컬럼의 cooling point를 없애기 위해 열선을 이용하여 이송관을 제작하였다. 그리고 코의 점막의 피로로 인한 건조함을 완화하고자 냄새 감지 강도에 영향을 주지 않도록 humidifier air는 120 ml/min으로 흘려주었다.
각각 검출된 신호는 Autochro Data Module 2대를 이용하여, AUTOCHRO-WIN 프로그램을 통해 FID와 FPD의 크로마토그램과 ODP의 Olfactogram을 모니터에 나타내어 동시 분석할 수 있도록 하였다.
개발된 GC/FID/FPD/ODP를 오래 사용된 마스크의 이취 분석에 적용시켜, 넓은 스펙트럼의 냄새강도를 통해 미지의 이취에 대한 원인 물질 규명과 이를 이용하여 제품의 문제점 개선에 유용하게 사용될 수 있을 것이다.
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