KCI등재
전산유체역학을 이용한 반도체 제조공정의 PM 전용 후드 설계 연구 = Design of local exhaust ventilation for preventive maintenance in semiconductor fabrication industry using CFD
저자
홍좌령 (삼성전자 건강연구소) ; 구재한 (삼성전자 반도체연구소 환경안전그룹) ; 박창섭 (삼성전자 반도체연구소 환경안전그룹) ; 최광민 (삼성전자 건강연구소)
발행기관
한국산업보건학회(Korea Society Of Occupational And Environmental Hygiene)
학술지명
한국산업보건학회지(Journal of Korean Society of Occupational and Environmental Hygiene)
권호사항
발행연도
2019
작성언어
Korean
주제어
등재정보
KCI등재
자료형태
학술저널
발행기관 URL
수록면
208-216(9쪽)
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제공처
Objective: The aim of this study is to control residual chemicals or by-products generated in chambers during preventive maintenance (PM) in the semiconductor manufacturing industry. We designed local exhaust ventilation using computational fluid dynamics (CFD). Methods: The air flow characteristics and capture efficiency between rectangular and slot hoods were compared numerically. The software Fluent 18.1 was used to estimate uniform velocity distribution and capture efficiency for contaminants. A metal from group 15 in the periodic table was released at the bottom of the chamber to simulate emissions. Results: The slot hood had a higher capture efficiency than a rectangular hood under the same conditions because the slot hood provided uniform air flow and higher face velocity. Also, there was no rotating swirl in the plenum for slot, that is why slot had better efficiency than rectangular even though they had similar face velocity. With less than 10 slots, the capture efficiencies for contaminants were nearly 95%. The optimum conditions for a hood to achieve high efficiency was 8 to 10 slots and a face velocity over 1 m/s. Conclusions: Well-designed ventilation systems must consider both efficiency and convenience. For this study, a slot hood that had high capture efficiency and no work disturbance was designed. This will contribute to protection of the worker's health in a PM area and other areas as well. Also, this study confirms the possibility of the application CFD in the semiconductor fabrication industry.
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연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
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2026 | 평가예정 | 재인증평가 신청대상 (재인증) | |
2020-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (재인증) | KCI등재 |
2017-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (계속평가) | KCI등재 |
2015-03-06 | 학술지명변경 | 한글명 : 한국산업위생학회지 -> 한국산업보건학회지 | KCI등재 |
2014-12-19 | 학회명변경 | 한글명 : 한국산업위생학회 -> 한국산업보건학회 | KCI등재 |
2014-08-14 | 학회명변경 | 영문명 : Korea Society Of Occupational And Environmental Hygiene -> Korean Industrial Hygiene Association | KCI등재 |
2013-01-01 | 평가 | 등재 1차 FAIL (등재유지) | KCI등재 |
2010-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2008-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2005-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
2004-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) | KCI후보 |
2002-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
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2016 | 0.24 | 0.24 | 0.25 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.25 | 0.24 | 0.389 | 0.09 |
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