KCI등재
SCIE
Investigation of Grinding and Lapping Surface Damage Evolution of Fused Silica by Inductively Coupled Plasma Etching
저자
Zuocai Dai (National University of Defense Technology) ; Shanyong Chen (National University of Defense Technology) ; Xuhui Xie (National University of Defense Technology) ; Lin Zhou (National University of Defense Technology)
발행기관
학술지명
권호사항
발행연도
2019
작성언어
English
주제어
등재정보
KCI등재,SCIE
자료형태
학술저널
수록면
1311-1323(13쪽)
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0
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제공처
Surface damage has great influence on optical properties, especially the laser-induced damage threshold of optics, and it has become a difficult and basic issue to find suitable methods to efficiently remove the surface damage for improving the surface quality. In this paper, the characteristic evolution of brittle scratch and ground/lapped surface damage during inductively coupled plasma etching (ICPE) process are experimentally investigated on fused silica. Results of damage removal tests show ICPE can efficiently remove brittle scratch and eliminate the lateral and medial cracks. The PV (peak to valley) and RMS (root mean square) values of surface roughness increase with the exposure of lateral and medial cracks, and then gradually decreases with further etching. Finally, the ground and lapped fused silica surfaces with a size of 300 × 300 × 20 mm3 are efficiently processed by ICPE. The power spectral density analysis further demonstrates that the damage can be efficiently removed by ICPE. This study reveals the damage evolution during ICPE process and also provides technical guidance for optimizing the efficient damage removal process to rapidly improve surface quality, precision and fabrication efficiency of fused silica optics.
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연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
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2023 | 평가예정 | 해외DB학술지평가 신청대상 (해외등재 학술지 평가) | |
2020-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (해외등재 학술지 평가) | KCI등재 |
2011-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2009-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2008-06-23 | 학회명변경 | 영문명 : Korean Society Of Precision Engineering -> Korean Society for Precision Engineering | KCI등재 |
2006-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
2005-05-30 | 학술지명변경 | 한글명 : 한국정밀공학회 영문논문집 -> International Journal of the Korean of Precision Engineering | KCI후보 |
2005-05-30 | 학술지명변경 | 한글명 : International Journal of the Korean of Precision Engineering -> International Journal of Precision Engineering and Manufacturing외국어명 : International Journal of the Korean of Precision Engineering -> International Journal of Precision Engineering and Manufacturing | KCI후보 |
2005-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) | KCI후보 |
2003-07-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
---|---|---|---|
2016 | 1.38 | 0.71 | 1.08 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.92 | 0.85 | 0.583 | 0.11 |
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