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매우 얇은 터널 장벽을 가진 금속-절연체-금속 소자에서 터널링 누설 전류 특성 연구 = Tunnel Leakage Current in Metal-insulator-metal Devices with an Ultra-thin Tunnel Barrier
본 연구에서는 WKB 근사가 적용되기 어려운 2 nm이하의 얇은 산화막을
가지는 tunnel junction에서 image force 효과를 고려한 potential
barrier와 양자역학적인 Transfer matrix 계산법을 이용하여 터널링
전류를 계산하고 Al/AlO$_x$/Al, Al/AlO$_x$/Nb 접합 소자에서 측정된
결과와 비교하였다. 모델링 결과와 측정된 터널링 전류 비교를 통해
Al/AlO$_x$/Al 과 Al/AlO$_x$/Nb 접합 구조에서 AlO$_x$ barrier의
높이와 두께, 유전상수를 추출하였다. 결과적으로 WKB 근사와 비교하여
양자역학적인 Transfer matrix 계산을 이용한 모델링 결과가 얇은
산화막을 가진 tunnel junction의 측정된 터널링 전류 특성과 더 좋은
일치를 보이는 것을 확인하였다.
We have studied the transport in Al- and Nb- based
metal-insulator-metal tunnel junctions. The depositions of the Al
and the Nb thin films were done using angle evaporation through a
suspended mask formed in a Ge layer supported by a thermally stable
polymer while the tunnel barrier was formed by thermal oxidation of
the bottom Al layer. After oxidation, we deposited the Al or Nb top
layer. The measured current-voltage $(I-V)$ characteristics were
compared with the ones modeled using the WKB approximation and
transfer matrix technique. In the modeling, Simmons' image force
correction was taken into account. The WKB approximation was found
not be applicable in the high-bias region. We extracted basic
junction parameters, such as the barrier height and width. and the
measured and the modeled $I-V$ curves were in good agreement. When
Nb was deposited directly on the Al-oxide layer, the potential
barrier became asymmetric, and its height was significantly lower
than that of the Al/AlO$_x$ junction.
분석정보
연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
---|---|---|---|
2023 | 평가예정 | 해외DB학술지평가 신청대상 (해외등재 학술지 평가) | |
2020-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (해외등재 학술지 평가) | KCI등재 |
2016-09-05 | 학술지명변경 | 외국어명 : Sae Mulli(New Physics) -> New Physics: Sae Mulli | KCI등재 |
2015-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2011-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2009-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2007-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2004-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
2003-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) | KCI후보 |
2002-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 유지 (등재후보1차) | KCI후보 |
1999-07-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
---|---|---|---|
2016 | 0.18 | 0.18 | 0.17 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.15 | 0.14 | 0.3 | 0.1 |
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