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MgO 보호막의 결함 전위 레벨이 AC-PDP 방전 특성에 미치는 효과 = Effect of Defect Energy levels on the AC PDP Discharging Characteristics
저자
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학술지명
電子工學會論文誌-SD (Semiconductor and devices)(Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea)
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2007
작성언어
Korean
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KCI등재
자료형태
학술저널
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12-17(6쪽)
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본 연구에서는 전자빔 증착의 증착률이 MgO 보호막의 특성과 제작된 PDP의 방전 특성에 주는 영향에 대하여 연구, 분석하였다. MgO 박막을 여러 조건의 증착률로 증착하였고, 이 후 결정 구조, 표면 거칠기, 박막 구조와 같은 특성을 XRD, AFM 등을 사용하여 측정, 평가 하였다. 실험 결과와 Paschen law을 통해서 5 A/sec의 증착률에서 이차전자방출이 최대가 되는 것을 확인할 수 있었으며, 동일 조건에서 방전 전압이 가장 작고, 발광 효율은 가장 큰 값을 갖는 것이 확인되었다. 또한 5A/sec의 (200) 결정 방향과 F? center 측정값도 가장 높게 측정되었다. XRD와 CL 스펙트럼의 결과를 통하여 이차전자방출계수가 MgO 박막의 분자 결정상의 F/F+ centers구조와 관련 있음을 확인할 수 있었다.
더보기The effects of the evaporation rate of MgO films using an electron beam on the MgO properties and the discharge characteristics of a plasma display panel(PDP) were investigated and analyzed. MgO films were deposited with the various MgO evaporation rates. The MgO properties such as the crystal orientation, the surface roughness, and the film structure, were inspected using XRD(X-ray diffractometry), AFM(atomic force microscopy). From the experiments and Paschen law, the maximum value of the secondary electron emission coefficient () was obtained at the evaporation rate of 5 A/sec. The minimum firing voltage and the maximum luminous efficiency were obtained at an evaporation rate of 5 A/sec. In the MgO film deposited at 5 A/sec, the (200) orientation and F? center were most intensive. The XRD results and cathode-luminescence(CL) spectra show the values are correlated with F/F+ centers of the molecular structure of MgO films.
더보기분석정보
연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
---|---|---|---|
2014-01-21 | 학회명변경 | 영문명 : The Institute Of Electronics Engineers Of Korea -> The Institute of Electronics and Information Engineers | |
2012-09-01 | 평가 | 학술지 통합(등재유지) | |
2011-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지(등재유지) | KCI등재 |
2009-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지(등재유지) | KCI등재 |
2007-10-04 | 학술지명변경 | 한글명 : 전자공학회논문지 - SD</br>외국어명 : SemiconductorandDevices | KCI등재 |
2007-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지(등재유지) | KCI등재 |
2005-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지(등재유지) | KCI등재 |
2002-07-01 | 평가 | 등재학술지 선정(등재후보2차) | KCI등재 |
2000-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정(신규평가) | KCI후보 |
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