KCI등재
대면적 리소그래피를 위한 홀로그램 영상의 연결과 연결 영역에서의 간섭무늬 제거 = Image Stitching and Seamless Holographic Photo-Lithography for Large-Area Patterning
저자
이준섭 (한양대학교) ; 박우제 (한양대학교) ; 이지환 (한양대학교) ; 송석호 (한양대학교) ; 이성진 (삼성전자㈜) ; 김의석 (삼성전자) ; Lee, Joon-Sub ; Park, Woo-Jae ; Lee, Ji-Whan ; Song, Soek-Ho ; Lee, Sung-Jin ; Kim, Oui-Serg
발행기관
학술지명
권호사항
발행연도
2009
작성언어
Korean
주제어
등재정보
KCI등재,ESCI
자료형태
학술저널
발행기관 URL
수록면
23-28(6쪽)
KCI 피인용횟수
1
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소장기관
본 논문에서는 대면적 리소그래피를 위하여 홀로그램 영상을 연결하여 기록 물질에 저장하고 이를 마스크로 이용하는 노광 방법을 제안하고 구현하였으며, 홀로그램 영상을 재생하는 과정에서 발생되는 영상 연결 부분에서의 간섭 무늬를 제거하였다. 연결하고자 하는 영상은 DMD(digital micro-mirror device)로 표시하였으며, DMD 영상은 축소 광학계를 통하여 기록 물질에 저장되었다. 기록 물질은 전동 스테이지로 이동되도록 하여, DMD로 표시되는 영상이 기록 물질에 연속적으로 저장되도록 하였다. 이러한 방법으로 저장되는 연결된 영상은 재생광에 의하여 노광에 사용되는데, 재생광의 간섭성에 의하여 연결부분에 간섭무늬가 발생된다. 간섭무늬는 노이즈로 작용하는데, 다중 노광에 의한 홀로그램 영상의 기록과 재생을 이용하여 이를 제거하였다. 본 논문에서는 DMD와 전동 스테이지를 이용하여 영상을 연결하여 기록하고, 다중 노광에 의한 영상 기록 방법을 이용하여, 간섭 무늬가 제거된 연결된 영상을 구현하고 이를 리소그래피에 적용하였다.
더보기In this study, we propose an image stitching method for large-area holographic photo lithography. In this method, a hologram medium become a hologram mask for lithography. And the mask has information for stitched images. These images are recorded by signal images which are controlled with DMD (digital micro-mirror device), and serial hologram recording is achieved with a motorized linear stage. Using this method, fringe seams appear on the stitching area. To remove these fringe seams, double exposure holographic lithography is tried. Each stitched image is recorded and reconstructed with a different reference beam. The experiments confirm that fringe seams are removed.
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연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
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2027 | 평가예정 | 재인증평가 신청대상 (재인증) | |
2021-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (재인증) | KCI등재 |
2018-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2015-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2011-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2009-07-23 | 학술지명변경 | 외국어명 : Hankook Kwanghak Hoeji -> Korean Journal of Optics and Photonics | KCI등재 |
2009-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2007-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2005-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2002-07-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
2000-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
---|---|---|---|
2016 | 0.22 | 0.22 | 0.22 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.19 | 0.15 | 0.533 | 0.05 |
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