KCI등재
SCIE
SCOPUS
Development of Large Area Nanostructured Silicon-Hydrogen Alloy Material with Improved Stability for Solar Cell Application by Argon Dilution Method
저자
Arka Dey (Jadavpur University) ; Mrinmay Das (Jadavpur University) ; Joydeep Datta (Jadavpur University) ; Rajkumar Jana (Jadavpur University) ; Joydeep Dhar (Jadavpur University) ; Sayantan Sil (Jadavpur University) ; Debasish Biswas (Jadavpur University) ; Chandan Banerjee (Indian Institute of Engineering Science and Technology) ; Partha Pratim Ray (Jadavpur University) 연구자관계분석
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학술지명
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발행연도
2016
작성언어
English
주제어
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KCI등재,SCIE,SCOPUS
자료형태
학술저널
수록면
456-461(6쪽)
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1
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Here we have presented the results of large area (30 × 30 cm2) siliconhydrogenalloy material and solar cell by argon dilution method. As analternative to hydrogen dilution, argon dilution method has been appliedto develop single junction solar cell with appreciable stability. Optimization of deposition conditions revealed that 95% argon dilutiongives a nanostructured material with improved transport property andless light induced degradation. The minority carrier diffusion length (Ld)and mobility-lifetime (μτ) product of the material with 95% argondilution degrades least after light soaking. Also the density of states(DOS) below conduction level reveals that this material is lessdefective. Solar cell with this argon diluted material has been fabricatedwith all the layers deposited by argon dilution method. Finally we havecompared the argon diluted solar cell results with the optimizedhydrogen diluted solar cell. Light soaking study proves that it is possibleto develop stable solar cell on large area by argon dilution method andthat the degradation of argon diluted solar cell is less than that ofhydrogen diluted one.
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연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
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학술지등록 | 한글명 : Electronic Materials Letters외국어명 : Electronic Materials Letters | ||
2023 | 평가예정 | 해외DB학술지평가 신청대상 (해외등재 학술지 평가) | |
2020-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (해외등재 학술지 평가) | KCI등재 |
2013-10-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (기타) | KCI등재 |
2011-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 유지 (기타) | KCI후보 |
2009-12-29 | 학회명변경 | 한글명 : 대한금속ㆍ재료학회 -> 대한금속·재료학회 | KCI후보 |
2008-01-01 | 평가 | SCIE 등재 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
---|---|---|---|
2016 | 1.68 | 0.41 | 1.08 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.89 | 0.83 | 0.333 | 0.06 |
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