RF-MSP에 의한 LiCoO₂박막전극의 형성에 관한 연구 = The Study of formation of LiCoO₂thin film electrode by RF-MSP
저자
발행기관
학술지명
生産技術硏究所論文集(Journal of Research Institute of Industrial Technology)
권호사항
발행연도
1997
작성언어
Korean
KDC
530.9
자료형태
학술저널
수록면
165-169(5쪽)
제공처
소장기관
LiCoO₂는 높은 전기충전밀도를 가진 전지로서 기대되고 있는 리튬 2차전지의 양극물질이다. 최근에는 주로 고출력 2차전지에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 만일 리튬 2차전지가 IC 기판에 박막으로 제작된다면 이것은 IC 칩, 마이크로기기, 박막형 전자 디스플레이 소자 등의 전원으로 사용할 수 있다. LiCoO₂박막은 CVD, Laser 증착, E-beam, 스파트링 등의 방법으로 제작할 수 있으나, 전지에 고성능의 양극으로 사용하기 위해서는 격자상수와 조성비를 맞추기 어렵다.
본 연구에서는 반응성 마그네트론 스파트링을 이용하여 기판의 온도와 산소분압을 변수로 하여 LiCoO₂박막을 제작하였다. 기판온도 700℃, 산소분압 5%에서 전지로서 가장 적합한 격자상수와 결정구조를 나타내었다.
LiCoO₂is a electrode material of Li ion cell which is expected as the cell with a very high electric charge density. The recent study is mainly to focused on a high power secondary cell. If very thin Li ion cell can be made in the scale of IC substrate, it can be a electric source in IC ship, micro machine or very thin electrical display etc. LiCoO₂thin film can be made by CVD, laser ablation, E-Beam, ion beam process, sputtering etc. But, it is difficult to make the material with a high quality for a cell as the electrode of a cell with the same ratio in components and a lattice parameter bulk etc.
In this study, LiCoO₂is made by R.F magnetron sputtering with the variance of
substrate temperature and oxygen partial pressure etc. At the substrate temperature of 700℃ and the oxygen rate of 5%, we can acquire the good thin film LiCoO₂compared with a bulk material.
서지정보 내보내기(Export)
닫기소장기관 정보
닫기권호소장정보
닫기오류접수
닫기오류 접수 확인
닫기음성서비스 신청
닫기음성서비스 신청 확인
닫기이용약관
닫기학술연구정보서비스 이용약관 (2017년 1월 1일 ~ 현재 적용)
학술연구정보서비스(이하 RISS)는 정보주체의 자유와 권리 보호를 위해 「개인정보 보호법」 및 관계 법령이 정한 바를 준수하여, 적법하게 개인정보를 처리하고 안전하게 관리하고 있습니다. 이에 「개인정보 보호법」 제30조에 따라 정보주체에게 개인정보 처리에 관한 절차 및 기준을 안내하고, 이와 관련한 고충을 신속하고 원활하게 처리할 수 있도록 하기 위하여 다음과 같이 개인정보 처리방침을 수립·공개합니다.
주요 개인정보 처리 표시(라벨링)
목 차
3년
또는 회원탈퇴시까지5년
(「전자상거래 등에서의 소비자보호에 관한3년
(「전자상거래 등에서의 소비자보호에 관한2년
이상(개인정보보호위원회 : 개인정보의 안전성 확보조치 기준)개인정보파일의 명칭 | 운영근거 / 처리목적 | 개인정보파일에 기록되는 개인정보의 항목 | 보유기간 | |
---|---|---|---|---|
학술연구정보서비스 이용자 가입정보 파일 | 한국교육학술정보원법 | 필수 | ID, 비밀번호, 성명, 생년월일, 신분(직업구분), 이메일, 소속분야, 웹진메일 수신동의 여부 | 3년 또는 탈퇴시 |
선택 | 소속기관명, 소속도서관명, 학과/부서명, 학번/직원번호, 휴대전화, 주소 |
구분 | 담당자 | 연락처 |
---|---|---|
KERIS 개인정보 보호책임자 | 정보보호본부 김태우 | - 이메일 : lsy@keris.or.kr - 전화번호 : 053-714-0439 - 팩스번호 : 053-714-0195 |
KERIS 개인정보 보호담당자 | 개인정보보호부 이상엽 | |
RISS 개인정보 보호책임자 | 대학학술본부 장금연 | - 이메일 : giltizen@keris.or.kr - 전화번호 : 053-714-0149 - 팩스번호 : 053-714-0194 |
RISS 개인정보 보호담당자 | 학술진흥부 길원진 |
자동로그아웃 안내
닫기인증오류 안내
닫기귀하께서는 휴면계정 전환 후 1년동안 회원정보 수집 및 이용에 대한
재동의를 하지 않으신 관계로 개인정보가 삭제되었습니다.
(참조 : RISS 이용약관 및 개인정보처리방침)
신규회원으로 가입하여 이용 부탁 드리며, 추가 문의는 고객센터로 연락 바랍니다.
- 기존 아이디 재사용 불가
휴면계정 안내
RISS는 [표준개인정보 보호지침]에 따라 2년을 주기로 개인정보 수집·이용에 관하여 (재)동의를 받고 있으며, (재)동의를 하지 않을 경우, 휴면계정으로 전환됩니다.
(※ 휴면계정은 원문이용 및 복사/대출 서비스를 이용할 수 없습니다.)
휴면계정으로 전환된 후 1년간 회원정보 수집·이용에 대한 재동의를 하지 않을 경우, RISS에서 자동탈퇴 및 개인정보가 삭제처리 됩니다.
고객센터 1599-3122
ARS번호+1번(회원가입 및 정보수정)