KCI등재
SCOPUS
SCIE
Electrical and optical characterization of SiOxNy and SiO2 dielectric layers and rear surface passivation by using SiO2/SiOxNy stack layers with screen printed local Al-BSF for c-Si solar cells
저자
Nagarajan Balaji (Sungkyunkwan University) ; Huong Thi Thanh Nguyen (Sungkyunkwan University) ; 박철민 (성균관대학교 에너지과학과) ; 주민규 (성균관대학교) ; Jayapal Raja (Sungkyunkwan University) ; Somenath Chatterjee (Sikkim Manipal University, India) ; R. Jeyakumar (CSIR-National Physical Laboratory, India) ; 이준신 (성균관대학교) 연구자관계분석
발행기관
학술지명
권호사항
발행연도
2018
작성언어
English
주제어
등재정보
KCI등재,SCOPUS,SCIE
자료형태
학술저널
수록면
107-113(7쪽)
KCI 피인용횟수
3
제공처
In c-Si solar cells, surface recombination velocity increases as the wafer thickness decreases due to an increase in surface to volume ratio. For high efficiency, in addition to low surface recombination velocity at the rear side, a high internal reflection from the rear surface is also required. The SiOxNy film with low absorbance can act as rear surface reflector. In this study, industrially feasible SiO2/SiOxNy stack for rear surface passivation and screen printed local aluminium back surface field were used in the cell structure. A 3 nm thick oxide layer has resulted in low fixed oxide charge density of 1.58 1011 cm2 without parasitic shunting. The oxide layer capped with SiOxNy layer led to surface recombination velocity of 155 cm/s after firing. Using single layer (SiO2) rear passivation, an efficiency of 18.13% has been obtained with Voc of 625 mV, Jsc of 36.4 mA/cm2 and fill factor of 78.7%. By using double layer (SiO2/SiOxNy stack) passivation at the rear side, an efficiency of 18.59% has been achieved with Voc of 632 mV, Jsc of 37.6 mA/ cm2, and fill factor of 78.3%. An improved cell performance was obtained with SiO2/SiOxNy rear stack passivation and local BSF.
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연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
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2023 | 평가예정 | 해외DB학술지평가 신청대상 (해외등재 학술지 평가) | |
2020-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (해외등재 학술지 평가) | KCI등재 |
2008-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
2007-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) | KCI후보 |
2003-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
---|---|---|---|
2016 | 1.8 | 0.18 | 1.17 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.92 | 0.77 | 0.297 | 0.1 |
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