表面の科學 : 理論·實驗·觸媒科學への應用

목차 (Table of Contents)

• 目次
• まえがき / 田丸謙二 = ⅰ
• 固體表面の測定法の名稱と略語表 = ⅲ
• 第Ⅰ編 理論
• 1. 固體表面 / 吉森昭夫 = 3
• 1. はじめに = 3
• 1·1 斷熱近似 = 3
• 1·2 電子系の運動 = 4
• 1·3 表面の電子狀態 = 4
• 2. 緩和 = 5
• 3. 再構成 = 6
• 3·1 表面格子の單位胞 = 7
• 3·2 W(100)表面 = 7
• 3·3 Si(111)(7×7)再構成表面 = 8
• a) 格子ガス模型 = 9
• b) 格子ガス模型の基底狀態 = 10
• 3·4 Si(111)(2×1)再構成 = 11
• 3·5 表面再構成の機構 = 12
• 4. 吸收 = 14
• 4·1 Newns-Anderson模型 = 14
• 4·2 吸着系の秩序狀態 = 16
• 5. おわりに = 17
• 文獻 = 18
• 2. 表面における動的過程 / 塚田捷 = 21
• 1. はじめに = 21
• 2. 解離吸着の機構 = 22
• 3. 表面における原子·分子の動力學 = 25
• 3·1 ストキャスティック·トラジェクトリ－法 = 25
• 3·2 エネルギ－散逸を支配するもの = 26
• 4. 電子移動を含む動的現象 = 28
• 4·1 半古典近似 = 28
• 4·2 媒質との結合效果 = 30
• 4·3 半古典近似の限界 = 32
• 5. 固體表面の電子勵起 = 33
• 5·1 Si(100)2×1面上のアルカリ金屬鎖のオ－バ－レイヤ－·プラズモン = 34
• 5·2 金屬表面上の希ガスの勵起スペクトル = 35
• 6. おわりに = 37
• 文獻 = 37
• 第Ⅱ編 實驗
• 3. 低速電子線回折および反射高速電子線回折 / 村田好正 ; 井野正三 = 41
• 1. 低速電子線回折(LEED) = 41
• 1·1 はじめに = 41
• 1·2 LEEDの補助的利用 = 41
• 1·3 2次元格子の形, 大きさの決定と表面現象 = 43
• 1·4 表面構造解析 = 46
• 1·5 おわりに = 47
• 2. 反射高速電子線回折(RHEED) = 48
• 2·1 序論 = 48
• 2·2 逆格子とエワルド球 = 48
• 2·3 表面超構造と相轉移 = 50
• 2·4 逆格子ロッドの强度測定 = 51
• 文獻 = 53
• 4. 光電子分光およびオ－ジェ電子分光, 非彈性電子トンネルスペクトロスコピ－ / 池田重良 = 55
• 1. はじめに = 55
• 2. 光電子分光(PES) = 55
• 2·1 光電子の測定 = 56
• 2·2 紫外光電子分光(UPS) = 59
• 2·3 固體表面のUPS = 60
• 2·4 固體表面吸着種のUPS = 64
• 2·5 X線光電子スペクトル(XPS) = 67
• 2·6 表面吸着反應とXPS = 71
• 2·7 光電子による表面構造の解析 - 光電子散亂スペクトル = 72
• a) 波長變化法 = 72
• b) 脫出角度變化法 = 73
• 2·8 光電分子光法による定量分析 = 74
• 3. オ－ジェ電子分光(AES) = 75
• 3·1 オ－ジェ電子 = 75
• 3·2 AESの測定裝置 = 76
• 3·3 表面元素分析法 = 77
• 3·4 オ－ジェ信號の化學情報 = 79
• 4. 非彈性電子トンネルスペクトロスコピ－(IETS) = 82
• 4·1 原理 = 82
• 4·2 測定法 = 83
• 4·3 吸着種のIETスペクトル = 84
• 4·4 吸着種の反應の硏究 = 85
• 4·5 觸媒硏究への應用 = 85
• 文獻 = 86
• 5. 廣域X線吸收微細構造と表面廣域X線吸收微細構造 / 黑田晴雄 = 89
• 1. 廣域X線吸收微細構造(EXAFS)の原理 = 89
• 2. EXAFSの測定 = 91
• 3. 擔持觸媒の硏究例 = 92
• 4. 表面EXAFSの原理 = 95
• 5. SEXAFSの測定 = 97
• 6. SEXAFSの應用例 = 98
• 7. おわりに = 99
• 文獻 = 100
• 6. 高分解能電子エネルギ－損失分光(HREELS) - 吸着種の表面振動 / 恩地勝 = 101
• 1. はじめに = 101
• 2. HREELS裝置について = 102
• 3. HREELS表面振動分光による成果 = 104
• 3·1 吸着粒子の伸縮振動數における$$\nu_1$$＞$$\nu_2$$＞$$\nu_3$$＞$$\nu_4$$＞則 = 105
• 3·2 吸着分子の結合エネルギ－の測定 = 108
• 3·3 表面における吸着分子の解離·非解離狀態 = 109
• 3·4 遷移金屬單結晶表面における炭化水素の吸着狀態と反應 = 111
• a) RhとPt表面における吸着アルケン類の表面化學結合 = 111
• b) Pt(111)表面の$$C_2H_4$$吸着狀態の溫度變化 = 113
• c) Pt(111)表面上の$$C_2H_2$$(アセチレン)吸着狀態の溫度變化 = 114
• d) 遷移金屬表面における炭化水素吸着結合と電子的因子 = 114
• e) この分野における將來の課題 = 115
• 4. HREELS表面振動分光による表面化學種分析における注意事項 = 116
• 5. HREELS振動分光の發展の動向 = 116
• 5·1 電子光學系の改良 = 116
• 5·2 檢出系の改良(時間分解にむけて) = 117
• 5·3 簡單な付加的裝置としてのEELS裝置の開發 = 117
• 文獻 = 118
• 7. ペニングイオン化電子分光法 / 原田義也 = 121
• 1. はじめに = 121
• 2. 實驗法 = 121
• 3. PIESの特徵 = 123
• 4. 固體表面のPIES = 127
• 5. まとめ = 131
• 文獻 = 132
• 8. 赤外分光法およびラマン法 / 大西孝治 = 133
• 1. はじめに = 133
• 2. FT-IR法 = 134
• 3. IRに應用される測定法 = 135
• 4. IR法から得られる情報 = 135
• 5. IR法による觸媒硏究 = 135
• 5·1 觸媒表面自體の硏究 = 135
• 5·2 吸着種の硏究 = 137
• 6. IR-RAS法による表面硏究 = 140
• 7. ラマン法による硏究 = 142
• 文獻 = 143
• 9. 電子顯微鏡 / 市ノ川竹男 ; 八木克道 = 145
• 1. 表面電子顯微鏡 = 145
• 2. 透過型電子顯微鏡(CTEM) = 145
• 2·1 觀察方法 = 146
• 2·2 觀察技術 = 146
• a) 眞空 = 146
• b) 淸淨表面作製技術 - 電顯內試料處理技術 = 147
• 2·3 透過法による觀察 = 147
• a) 表面構造の解析 = 147
• b) 動的觀察 = 150
• 2·4 反射法による觀察 = 150
• a) 反射像におけるコントラスト = 150
• b) 反射像で觀察されるもの = 151
• c) 動的觀察 = 152
• d) 反射電顯法の應用 = 153
• 2·5 CTEMと表面分析 - 今後の課題 = 153
• 3. 走査型電子顯微鏡(SEM) = 153
• 3·1 原理 = 153
• 3·2 裝置 = 154
• 3·3 應用 = 157
• a) 2次電子像 = 157
• b) 局所分析 = 160
• 4. 光電子放射電子顯微鏡 = 163
• 4·1 原理 = 163
• 4·2 裝置 = 164
• a) Turnerらの光電子放射顯微鏡 = 164
• b) 電子レンズを用いた光電子放射顯微鏡 = 165
• 4·3 應用 = 166
• 5. 低エネルギ－反射電子顯微鏡(LEERM) = 168
• 5·1 原理 = 168
• 5·2 裝置 = 169
• 5·3 應用 = 170
• 文獻 = 171
• 10. イオンを用いる表面解析 / 菊田惺志 ; 泉弘一 = 173
• 1. はじめに = 173
• 2. イオン散亂分光法 = 174
• 2·1 散亂のメカニズム = 174
• a) 2體衝突モデル = 174
• b) 鎖狀モデル = 175
• c) 中性化過程 = 176
• 2·2 イオン散亂分光裝置 = 179
• 2·3 表面組成分析への應用 = 180
• a) 表面の元素の同定 = 180
• b) 表面組成の分析 = 181
• 2·4 表面構造解析への應用 = 181
• a) シャドウィング效果の利用 = 181
• b) 多重散亂の利用 = 185
• 3. Rutherford散亂分光法 = 186
• 4. 2次イオン質量分析法 = 187
• 文獻 = 188
• 11. 分子線を用いる表面の硏究 / 楠勳 = 191
• 1. 實驗法 = 191
• 2. 分子線回折と表面構造 = 192
• 3. 非彈性散亂と表面振動 = 194
• 4. 散亂分子の狀態とエネルギ－移動 = 196
• 5. 吸着と脫離 = 197
• 6. 表面化學反應 = 198
• 文獻 = 202
• 12. アトムプロ－ブ質量分析器によるガス表面相互作用の硏究 / 西川治 = 205
• 1. はじめに = 205
• 2. FEMとFIMの構造と原理 = 205
• 3. 電界蒸發 = 207
• 4. アトムプロ－ブ質量分析器 = 208
• 5. 水素の物理吸着と化學吸着 = 210
• 6. COと$$CH_3$$ODの吸着 = 213
• 7. おわりに = 214
• 文獻 = 215
• 13. 電子スピン共鳴(ESR)および核磁氣共鳴(NMR)による固體表面での動的過程の硏究 / 鹽谷優 = 217
• 1. はじめに = 217
• 2. 磁氣共鳴(ESR, NMR)と分子運動 = 218
• 3. ESRによる硏究 = 219
• 3·1 g値の異方性と分子運動 = 219
• 3·2 g値およびhfsの異方性と分子運動 = 221
• 3·3 その他の硏究 = 223
• 4. NMRによる硏究 = 223
• 4·1 $$^{13}C$$-化學シフトと分子運動 = 223
• a) 化學シフト = 223
• b) 木炭に吸着したベンゼン系の硏究 = 223
• c) ZSM-5ゼオライトに吸着されたキシレンの$$^{13}C$$-NMR = 224
• d) その他の硏究 = 226
• 4·2 D-NMRと分子運動 = 226
• a) 電氣四重極分裂 = 226
• b) アルミナに吸着されたベンゼン-$$d_6$$のD-NMR = 227
• c) その他の硏究 = 228
• 4·3 竝進擴散運動 = 228
• 5. おわりに = 228
• 文獻 = 228
• 14. 昇溫脫離(TD), 昇溫反應(TPR)および熱分析(TA) / 安盛岩雄 = 231
• 1. はじめに = 231
• 2. スペクトルの測定および解析 = 232
• 3. 硏究への應用の現狀 = 236
• 3·1 TPDおよびTPDE = 237
• 3·2 TPR = 239
• 3·3 その他の熱測定 = 240
• 4. 將來の發展 = 241
• 5. おわりに = 241
• 文獻 = 241
• 第Ⅲ編 固體表面の特性
• 15. 化學吸着 / 豊嶋勇 ; 田中勝己 ; 宮原孝四郞 = 245
• 1. はじめに = 245
• 2. 吸着と表面のキャラクタリゼ－ション = 246
• 3. 周期表からみた化學吸着 = 248
• 4. 金屬上の簡單な分子の吸着 = 252
• 4·1 COの吸着 = 252
• 4·2 CO吸着のKの效果 = 257
• 4·3 窒素の吸着 = 259
• 5. おわりに = 261
• 文獻 = 261
• 16. 觸媒反應の起こり方 / 江川千佳司 ; 田丸謙二 = 265
• 1. はじめに = 265
• 2. Pt表面でのCO酸化反應 = 266
• 3. Ru表面でのNO水素化と$$NH_3$$分解反應 = 268
• 3·1 背景と實驗方法 = 268
• 3·2 Ru單結晶表面でのNO水素化反應 = 269
• 3·3 Ru單結晶表面での$$NH_3$$分解反應 = 271
• 3·4 Ru單結晶表面のN(ad)の反應性の違い = 274
• 4. W表面での$$NH_3$$分解反應 = 275
• 5. まとめ = 277
• 文獻 = 277
• 17. トレ－サ－を用いる硏究 / 田中虔一 = 279
• 1. はじめに = 279
• 2. 中間體と反應機構 = 279
• 3. 中間體と活性点の機能 = 287
• 3·1 オレフィンの異性化と水素化反應 = 288
• 3·2 オレフィンのメタセシス反應とホモロゲイション反應 = 293
• 文獻 = 298
• 18. 金屬酸化物上での光觸媒反應 / 窪川裕 ; 川合知二 = 299
• 1. はじめに = 299
• 2. 酸化物上での光觸媒反應 = 299
• 2·1 酸化生成物のみを與える場合(光酸化反應) = 300
• 2·2 酸化および還元の兩生成物を與える場合 = 302
• 2·3 $$H_2O$$の分解, $$\Delta$$G＞0の反應 = 303
• 3. 反應機構解明へのアプロ－チ = 304
• 3·1 酸化物の發光と光觸媒反應 = 304
• 3·2 光觸媒表面での反應中間體 = 306
• 3·3 光觸媒反應の動的過程 = 308
• 4. 光で誘起された固體表面反應硏究の今後 = 310
• 文獻 = 310
• 19. 固體觸媒表面のデザイン / 岩澤康裕 = 313
• 1. はじめに = 313
• 2. 分子觸媒設計の試み = 313
• 3. GroupⅥ金屬觸媒 = 314
• 3·1 モリブデン觸媒 = 314
• 3·2 クロム觸媒 = 317
• 4. GroupⅧ金屬觸媒 = 319
• 4·1 コバルト觸媒 = 319
• 4·2 ルテニウム觸媒 = 321
• 5. おわりに = 323
• 文獻 = 323
• 20. 金屬粒子の粒徑制御と觸媒作用 / 上野晃史 = 325
• 1. はじめに = 325
• 2. アルコキシド法による粒徑制御 = 326
• 2·1 アルコキシド法の槪略 = 326
• 2·2 金屬グリコキシドによる觸媒調製 = 327
• 2·3 シリカ擔持ニッケル觸媒におけるニッケル粒子の粒徑制御 = 328
• 3. 擔持金屬觸媒の金屬粒徑と觸媒作用 = 330
• 3·1 ニッケル粒徑と反應選擇性 = 330
• 3·2 微粒化による觸媒作用の變化の原因 = 331
• 4. 觸媒調製過程における金屬原子周圍の構造變化 = 332
• 4·1 エチレングリコ－ル中への硝酸ニッケルの溶解過程 = 333
• 4·2 ケイ酸エチルの添加と混合過程 = 333
• 4·3 加水分解過程 = 334
• 4·4 ゲルの乾燥過程 = 334
• 4·5 燒成過程 = 336
• 4·6 還元過程 = 336
• 5. まとめ = 337
• 文獻 = 337
• 21. 複合酸化物觸媒 / 今中利信 ; 山添○ = 339
• 1. 表面狀態と反應性 = 339
• 1·1 表面濃度變化 = 339
• 1·2 表面化合物の生成 = 342
• 1·3 表面層の擧動 = 343
• 1·4 表面酸鹽基性 = 344
• 2. 表面活性種と反應中間體 = 345
• 2·1 表面活性種 = 346
• 2·2 部分酸化の活性種と活性酸素種 = 346
• 2·3 表面活性種上の反應中間體 = 348
• 3. 擔體上の活性種 = 351
• 文獻 = 353
• 索引 = 355