KCI등재
MOS 모델을 이용한 그래핀 트랜지스터 모델링
저자
임은재(Eun-Jae Lim) ; 김형근(Hyeongkeun Kim) ; 양우석(Woo Seok Yang) ; 유찬세(Chan-Sei Yoo) 연구자관계분석
발행기관
학술지명
한국전자파학회논문지(The Journal Of Korean Institute of Electromagnetic Engineering and Science)
권호사항
발행연도
2015
작성언어
Korean
주제어
등재정보
KCI등재
자료형태
학술저널
발행기관 URL
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837-840(4쪽)
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1
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그래핀은 한 원자 두께의 탄소재료로서 전자가 매우 빠른 속도로 이 층을 통과할 수 있기 때문에, 트랜지스터를 비롯한 다양한 디바이스 응용을 위한 연구가 수행되어 왔다. 높은 전자이동도 특성으로 인해 높은 주파수 대역이나 고속 스위치 등의 시스템 응용에 적합하다. 본 연구에서는 양산에 적합한 RT-CVD(Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition) 공정을 이용하여 실리콘 기판 상에 그래핀 층을 형성하고, 다양한 공정조건 최적화를 통해 7,800 cm2/Vs의 전자이동도를 추출하였다. 이는 실리콘 기판의 7배 이상 되는 값이고, GaAs 기판보다도 높은 수치이다. 밴드갭이 존재하지 않는 그래핀 기반 트랜지스터 모델링을 위해 pMOS와 nMOS의 모델을 융합하여 적용하였고, 실험을 통해 추출된 전자이동도 값을 적용하였다. 추출된 모델을 이용하여 트랜지스터의 핵심 파라미터 중의 하나인 게이트의 길이와 폭 등에 따른 전기적 특성을 고찰하였다.
더보기Graphene is a single layer of carbon material which shows very high electron mobility, so many kinds of research on the devices using graphene layer have been performed so far. Graphene material is adequate for high frequency and fast operation devices due to its higher mobility. In this research, the actual graphene layer is evaluated using RT-CVD method which can be available for mass production. The mobility of 7,800 cm2/Vs was extracted, that is more than 7 times of that in silicon substrate. The graphene transistor model having no band gap is evaluated using both of pMOS and nMOS based on the measured mobility values. And then the response of graphene transistor model regarding to gate length and width is examined.
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연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
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2027 | 평가예정 | 재인증평가 신청대상 (재인증) | |
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2018-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
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2008-04-08 | 학술지명변경 | 외국어명 : The Journal Of The Korea Electromagnetic Engineering Society -> The Journal Of Korean Institute of Electromagnetic Engineering and Science | KCI등재 |
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2004-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
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2000-07-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
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2016 | 0.2 | 0.2 | 0.17 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.15 | 0.13 | 0.363 | 0.1 |
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