KCI등재
LPCVD P₂O5 - SiO₂ 집적광학박막의 제작 및 특성연구(2) : TMPate와 PH₃의 비교
저자
정환재(Hwan Jae Jung) ; 이형종(Hyung Jong Lee) ; 이용태(Yong Tai Lee) ; 전은숙(Eun Suk Jeon) ; 김순창(Soon Chul Yang) ; 양순철(Soon Chang Kim)
발행기관
학술지명
권호사항
발행연도
1995
작성언어
Korean
KDC
425
등재정보
KCI등재,ESCI
자료형태
학술저널
발행기관 URL
수록면
233-238(6쪽)
제공처
소장기관
Low Pressure Chemical Vapor Deposition으로 TEOS, TMPate, PH₃을 이용하여 Si을 기판으로한 집적광학용 P₂O_5-SiO₂(PSG)박막을 만들었으며 P 첨가제인 TMPate와 PH₃의 사용에 따른 증착률, 굴절률, 균일도 등의 특성을 조사 및 비교하였다. TMPate에 의한 PSG 박막은 증착률이 55Å/min으로 PH₃에 의한 PSG 박막의 값인 90Å/min 보다 작았으며, 상대적으로 TMPate-PSG의 두께 균일도는 2%로 PH₃-PSG의 값인 4.5%보다 작아 균일도면에서 훨씬 우수하였다. TMPate-PSG의 굴절률은 파장 633㎚에서 1.445~1.468이였으며, PH₃-PSG는 1.459~1.476으로 TMPate-PSG 보다 높은 굴절률 값을 얻을 수 있었다.
더보기We made P₂O5 - SiO₂ films on silicon for integrated optics application by low pressure chemical vapor deposition using TEOS(tetraethylorthosilicate), TMPite(trimethylphosphite) and phosphine(PH₃). And We studied and compared between TMPite and PH₃ as a dopant of P in PSG films in the aspect of the deposition characteristics. Deposition rate of TMPate-PSG films was 55 Å/min which was smaller than 90 Å/min, that of PH₃-PSG films. Thickness deviation of TMPate-PSG films was 2% and that of PH₃-PSG was 4.5%. So TMPate-PSG films had a good quality in thickness uniformity. The range of refractive index was controlled from 1.445 to 1.468 at 633 ㎚ in TMPate-PSG films and it was controlled from 1.456 to 1.476 in PH₃-PSG films.
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