KCI등재
SCIE
SCOPUS
Modification of tool influence function for bonnet polishing tool based on analysis of interfacial contact state
저자
Ri Pan (Beijing University of Technology) ; Xiangxiang Zhu (Beijing University of Technology) ; Zhenzhong Wang (Xiamen University) ; Dongju Chen (Beijing University of Technology) ; Shuting Ji (Beijing University of Technology) ; Jinwei Fan (Beijing University of Technology) ; Rui Wang (Beijing University of Technology)
발행기관
학술지명
JOURNAL OF MECHANICAL SCIENCE AND TECHNOLOGY(Journal of Mechanical Science and Technology)
권호사항
발행연도
2022
작성언어
English
주제어
등재정보
KCI등재,SCIE,SCOPUS
자료형태
학술저널
수록면
2825-2836(12쪽)
DOI식별코드
제공처
The polishing mechanism of bonnet polishing (BP) and the tool influence function (TIF) of bonnet tool have been widely studied. However, most of current studies pay little attention to the influence of polishing slurry on the BP mechanism as well as TIF. This study proposes that the interfacial contact state between the polishing tool and the workpiece is in a mixed lubrication state, subsequently the BP mechanism is further explored. It is found that the workpiece material is removed by polishing pad and abrasives. The polishing slurry is not directly involved in workpiece removal, but shares the normal pressure of the polishing tool on workpiece, which affects material removal.
Based on the above mechanism, the TIF removal prediction model is established and verified by experiments. The results show that the maximum error of the model prediction value is quiet small, which verifies the model. Moreover, compared with Preston model and the previous model, which ignored the influence of the fluid, the average prediction error of the model in this paper when D 0 = 20 mm is 6.38 %, while the previous model and Preston model are 11.21 % and 49.10 %, respectively. Which illustrates the model in this paper has higher accuracy.
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