KCI등재
pp한국 하이테크 기업의 대중국 기술이전 경로선택에 관한 실증연구- 라이센싱과 독자투자 경로선택을 중심으로 -
저자
박승찬 (용인대학교)
발행기관
학술지명
권호사항
발행연도
2008
작성언어
Korean
주제어
등재정보
KCI등재
자료형태
학술저널
수록면
69-100(32쪽)
KCI 피인용횟수
2
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제공처
소장기관
최근 중국시장 환경변화에 따른 우리기업의 중국 내 현지화 경영악화 및 진출의 어려움이 더욱 가중되고 있다. 과거 기술우위를 가지고 선점해오고 있는 하이테크 시장에서도 이제 중국과의 경쟁이 더욱 치열해지고 있다. 따라서 본 논문은 ‘기술이전’이라는 매개물을 이용한 전략적 진출방안을 실증적 분석을 통해 모색해 보고자 한다. 특히, 어떠한 기술이전 경로를 통해 성공적 중국진출이 이루어질 수 있는지를 중국 내 투자한 기업을 대상으로 설문조사한 데이터를 근거로 실증분석을 시도해 보았다. 본 논문에서는 기술이전 경로를 라이센싱과 중국 내 독자투자회사 설립의 두 가지 형태로 구분하고 그 경로를 선택함에 있어 한국 하이테크기업들은 어떤 요인을 고려하여 최종결정을 하고, 그러한 요인들의 특성에 따라 기술이전 경로선택을 어떻게 진행하는지를 분석하고자 한다. 이러한 분석을 위해 하이테크기업의 대중국 기술이전 경로선택에 영향을 미칠 것으로 생각되는 요인 및 관련변수에 대해 연구모형 및 연구가설을 설정하고 설문조사 데이터를 이용하여 가설을 검증해 보았다. 경로선택 요인의 추출을 위해서는 판별분석을 이용하였으며, 추출된 요인이 기술이전 경로의 선택과 어떤 방향으로 관련되어 있는가에 대한 가설검증을 위해서는 로지트 모델에 의한 회귀분석을 진행하였다.
실증분석 결과 기술특성 요인에서는 기술의 중요도와 기술적 자산의 특수성, 한국 하이테크기업의 특성으로는 R&D 집약도, 한국기업의 마케팅 능력, 중국투자 환경요인으로는 외국인의 지분소유에 대한 중국정부의 정책, 관세 및 비관세장벽요인이 대중국 기술이전 경로선택에 영향을 미치고 있는 것으로 나타났다.
이제 노동 및 제조기술 혼합형 진출에서 탈피하여 다양한 형태의 전략적 기술집약형 진출과 중국 로컬기업과의 효과적인 기술이전을 통해 국가 및 기업의 시너지를 제고해 나가야 한다. 그러한 차원에서 본 논문이 제시한 이론적 모형과 현지 투자기업 설문조사내용은 향후 우리 하이테크기업의 중국진출에 유용한 방법적 도구로서 활용가치가 있을 것으로 생각된다.
분석정보
연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
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2026 | 평가예정 | 재인증평가 신청대상 (재인증) | |
2020-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (재인증) | KCI등재 |
2017-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (계속평가) | KCI등재 |
2013-01-01 | 평가 | 등재 1차 FAIL (등재유지) | KCI등재 |
2010-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2008-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2005-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
2004-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) | KCI후보 |
2003-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 유지 (등재후보1차) | KCI후보 |
2002-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 유지 (등재후보1차) | KCI후보 |
2000-07-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
---|---|---|---|
2016 | 0.51 | 0.51 | 0.44 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.39 | 0.43 | 0.604 | 0.34 |
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