KCI등재
화학증착법 = Chemical Vapor Deposition (C . V . D)
저자
천성순 (미국 Univ. of Utah 연구조교수)
발행기관
학술지명
권호사항
발행연도
1971
작성언어
Korean
KDC
436
등재정보
KCI등재
자료형태
학술저널
발행기관 URL
수록면
116-122(7쪽)
제공처
소장기관
화학증착기술의 이용은 급속도로 증가해가고 있으며 이용부분은 금속이외에도 반도체, 요업재, 섬유재, 함성재에까지 확장되고 있는바, 우리나라와 가장 관련이 많은 중석에 對하여 기술하였으며, 중석 이외의 응용에 對해서는 간단한 증착방법만을 소개하였다. 특히 새로 고안된 내화금속 그리고 합금等의 고온에서의 기계적성질을 조사할 수 있는 새로운 장치에 대하여 설명하였다.
Chemical vapor deposition techniques have been applied to refractory metals, ceramics, semiconductors, insulators and conductors. The principles and techniques of chemical vapor deposition reactions for the above materials are reviewed. A new design concept of a high temperature hoop stress measurement apparatus for C.V.D. tungsten and other refractory metal alloys is discussed.
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