KCI등재후보
NO<sub>x</sub> 제거용 저온 플라즈마 반응기에서의 플라즈마 화학 및 입자 성장 = The Plasma Chemistry and Particle Growth in the Low Temperature Plasma Reactor for removal of NO<sub>x</sub>
저자
김동주 (강원대학교 화학공학과 박사과정) ; 김교선 (강원대학교 화학공학과) ; Kim, Dong-Joo ; Kim, Kyo-Seon
발행기관
강원대학교 산업기술연구소(THE INSTITUTE OF INDUSTRIAL TECHNOLOGY KANGWON NATIONAL UNIVERSITY)
학술지명
産業技術硏究(RESEARCH REPORT THE INSTITUTE OF INDUSTRIAL TECHNOLOGY)
권호사항
발행연도
1999
작성언어
Korean
등재정보
KCI등재후보
자료형태
학술저널
수록면
331-341(11쪽)
제공처
소장기관
We analyzed theoretically the removal efficiency and the particle growth inside the pulse corona discharge reactor to remove $NO_x$ and investigated the effects of process variables such as the NO and $NH_3$ input concentrations. Most of NO is converted into $NO_2$ and $HNO_3$ and the $HNO_3$ reacts with $NH_3$ to form the $NH_4NO_3$ particles. About 6.4% of NO is converted into $HNO_2$ which form the $NH_4NO_2$ particles by reaction with $NH_3$. Some of $NO_2$ follows the reaction pathway to form $NO_3$ and $N_2O_5$. The amount of particles formed inside the reactor is basically determined by the input $NH_3$ concentration. The ratio of NO to $NH_3$ affects the reactor length for particle formation significantly. The higher the input concentrations of NO and $NH_3$ are, the faster the particles grow.
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