KCI등재
SCOPUS
SCIE
Use of graphene for forming Al-based p-type reflectors for near ultraviolet InGaN/AlGaN-based light-emitting diode
저자
발행기관
학술지명
Current Applied Physics(the official journal of the Korean Physical Society)
권호사항
발행연도
2014
작성언어
English
주제어
등재정보
KCI등재,SCOPUS,SCIE
자료형태
학술저널
수록면
1176-1180(5쪽)
KCI 피인용횟수
3
제공처
We demonstrated the improved performance of near UV (365 nm) InGaN/AlGaN-based LEDs using highly reflective Al-based p-type reflectors with graphene sheets as a diffusion barrier. The use of graphene sheets did not degrade the reflectance of ITO/Al contacts, viz. ~81% at 365 nm. The ITO/graphene/Al contacts annealed at 300 C exhibited better ohmic behavior with a specific contact resistance of 1.5 103 Ucm2 than the ITO/Al contact (with 9.5 103 Ucm2). Near UV LEDs fabricated with the ITO/ graphene/Al contact annealed at 300 C showed a 7.2% higher light output (at 0.1 W) than LEDs with the ITO/Al reflector annealed at 300 C. The SIMS results exhibited that, unlike the ITO/graphene/Al, the ITO/ Al contacts undergo a significant indiffusion of Al atoms toward the GaN after annealing. Furthermore, both Ga and Mg atoms were also more extensively outdiffused in the ITO/Al contacts after annealing. On the basis of the SIMS and electrical results, the possible explanations for the annealing-induced degradation of the ITO/Al contacts are described and discussed.
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| 2016 | 1.8 | 0.18 | 1.17 |
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