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SCOPUS
레이저 스크라이빙 공정을 이용한 디자인된 그래핀의 패턴 합성 = Pattern Synthesis of Designed Graphene by using a LASER Scribing Process
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2019
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Korean
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KCI등재,SCOPUS
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학술저널
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590-595(6쪽)
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In this study, a LASER scribing process in a vacuum chamber was used to reduce the process time and the energy consumption significantly and pattern synthesis of graphene into the desired shape was carried out. For this purpose, a LASER-assisted chemical vapor deposition (CVD) was used and a negative tone resist polymer film was coated onto various substrate, such as metal foil, quartz, and quartz coated with a thin metal film, to be used as a solid carbon source for graphene synthesis. On such a prepared substrate, patten synthesis of graphene by LASER ( = 1064 nm, pulse) local heating method was performed in a vacuum chamber, and each sample was evaluated by Raman spectroscopy to optimize the synthesis conditions. In the case of a metal substrate, the synthesis of patterns of graphene was difficult due to the good thermal conductivity of the metal.
For the quartz substrates, the optimized conditions for graphene synthesis were a power of 1.4 W, a scan speed of 1mm/s, a frequency of 30 kHz, and five exposures. For the quartz substrate coated with a 300 nm Ni film. The optimized conditions were a power of 1.8 W, a scan speed of 2 mm/s, a frequency of 30 kHz and one exposure.
본 연구에서는 레이저 스크라이빙 공정과 진공 챔버를 결합하여 공정시간과 에너지 소모를 대폭적으로절감하여 그래핀을 원하는 위치에 원하는 모양으로 패턴 합성하는 연구를 수행하였다. 이를 위해서 LASER assisted CVD를 구축하고 금속호일, 퀄츠, 금속박막이 코팅된 퀄츠 등의 다양한 기판들에 Negative tone resist 폴리머 박막을 코팅하여 그래핀 합성의 고체 탄소원으로 사용하였다. 이와 같이 준비된 기판에서레이저( = 1064 nm, 펄스) 국소 가열법에 의한 그래핀의 패턴 합성을 진공 챔버에서 수행하였고, 각각의 시료는 라만분광법에 의해 특성을 평가하여 합성조건을 최적화하였다. 금속기판에서는 금속의 열전도성이좋아서 그래핀의 패턴 합성이 어려웠으나, 퀄츠 기판에서는 출력파워 1.4 W, 스캔속도 1 mm/s, 주파수30 kHz & 노출횟수 5회 , 금속박막(Ni 300 nm)이 증착된 퀄츠기판에서는 출력파워 1.8 W, 스캔속도 2 mm/s, 주파수 30 kHz로 최적화된 합성조건을 찾았다.
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연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
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2023 | 평가예정 | 해외DB학술지평가 신청대상 (해외등재 학술지 평가) | |
2020-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (해외등재 학술지 평가) | KCI등재 |
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2002-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 유지 (등재후보1차) | KCI후보 |
1999-07-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
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2016 | 0.18 | 0.18 | 0.17 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.15 | 0.14 | 0.3 | 0.1 |
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