SCOPUS
KCI등재
분자선에피택시성장법으로 성장한 AlAS/GaAs 에피택셜층의 특성 = Study on the Characteristics of the AlAS/GaAs Epitaxial Layers Grown by Molecular Beam Epitaxy
저자
노동완 ; 김경옥 ; 이해권 ; No, Dong-Wan ; Kim, Gyeong-Ok ; Lee, Hae-Gwon
발행기관
학술지명
권호사항
발행연도
1997
작성언어
Korean
등재정보
SCOPUS,KCI등재,ESCI
자료형태
학술저널
발행기관 URL
수록면
1041-1046(6쪽)
제공처
소장기관
본 연구에서는 분자선 에피택시 방법으로 비대칭 AIAs/GaAs(001)이중 장벽, 삼중장벽구조를 성장한 수 이를 이용하여 2단자 소자를 제작하여 전기적 특성을 분석하였다. 에피층은 쌍결정 X-ray회절 분석과 단면투과 전자현미경을 이용하여 결정성 및 격자 정합성을 확인하였다. 전기적 성능을 보다 향상시키기 위해 n-GaAs에 대한 오믹 접촉등의 소자 제작 공정을 최적화하였다. 삼중장벽 구조를 이용하여 제작한 소자의 전기적 특성 연구 결과 두개의 주요 공진 터널링 전류 피크 사이에 X-valley에 의한 구조를 확인할 수 있었으며, 이중 장벽구조에 제2의 양자우물 구조를 첨가함으로써 낮은 전압위치에서 전류 피크가 향상하는 결과를 얻었다.
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