KCI등재
염화철 에칭 용액 재생을 위한 액상 및 고상 산화제를 이용한 산화공정에 대한 연구
저자
김대원(Dae-Weon Kim) ; 박일정(Il-Jeong Park) ; 김건홍(Geon-Hong Kim) ; 채병만(Byung-man Chae) ; 이상우(Sang-Woo Lee) ; 최희락(Hee-Lack Choi) ; 정항철(Hang-Chul Jung) 연구자관계분석
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2017
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Korean
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KCI등재
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158-162(5쪽)
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2
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철, 구리, 알루미늄, 니켈 등의 금속을 에칭하기 위한 에칭액으로 FeCl₃ 용액이 사용되며, 에칭 과정에서 Fe<SUP>3+</SUP>가 Fe<SUP>2+</SUP>로 환원되면서 에칭속도를 저하시키고, 에칭효율이 감소하게 된다. 또한 에칭 후 발생하는 염화철 에칭폐액은 환경적, 경제적으로 문제를 지니기 때문에 에칭액을 재생하여 재사용 할 필요가 있다. 본 연구에서는 FeCl₂ 용액에 HCl을 첨가한 후, 산화제로 H₂O₂, NaClO₃를 첨가하여 용액 내 Fe<SUP>2+</SUP>를 산화시켰으며, 산화과정에서 산화-환원전위(ORP)와 산화율간의 관계를 조사하였다. ORP는 H₂O₂와 NaClO₃의 농도가 증가함에 따라 증가하였으며, 산화가 진행되면서 점차 감소하여 산화가 완료된 후에 일정한 ORP를 유지하였다. Nernst 식과 일치하는 결과를 보였다. 또한 충분한 양의 HCl 및 H₂O₂, NaClO₃를 첨가하였을 경우, 약 99% 이상 산화가 이루어짐을 알 수 있었다.
더보기FeCl₃ solution has been used as an etchant for metal etching such as Fe, Cu, Al and Ni. In the etching process, Fe<SUP>3+</SUP> is reduced to Fe<SUP>2+</SUP> and the etching efficiency is decreased. Waste FeCl₃ etchant has environmental, economic problems and thus the regeneration of the etching solution has been required. In this study, HCl was mixed with the FeCl₂ solution and then, H₂O₂, NaClO₃ were added into the mixed solution to oxidize the Fe<SUP>2+</SUP>. During the oxidation process, oxidation-reduction potential (ORP) was measured and the relationship between ORP and oxidation ratio was investigated. The ORP is increased with increasing the concentration of H₂O₂ and NaClO₃, and then the ORP is decreased with oxidation progress. Such a behavior was in good agreement with Nernst’s equation. Also, the oxidation efficiency was about 99% when a sufficient amount of HCl and H₂O₂, NaClO₃ were added.
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연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
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2027 | 평가예정 | 재인증평가 신청대상 (재인증) | |
2021-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (재인증) | KCI등재 |
2018-11-01 | 학술지명변경 | 한글명 : 청정기술 -> Clean Technology외국어명 : CLEAN TECHNOLOGY -> Clean Technology | KCI등재 |
2018-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2015-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2011-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2008-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
2007-07-04 | 학술지명변경 | 한글명 : 한국청정기술학회지 -> 청정기술 | KCI후보 |
2007-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) | KCI후보 |
2005-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
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2016 | 0.26 | 0.26 | 0.25 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.29 | 0.28 | 0.4 | 0.1 |
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