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Efficiency characteristics of a silicon oxide passivation layer on p-type crystalline silicon solar cell at low illumination
Silicon dioxide (SiO2) is widely used to improve the surface passivation properties of silicon solar cells. To minimize solar cell potential-induced degradation when the PV module is installed outdoors, a silicon oxide film is widely used as an insulator. However, experiments have confirmed that solar cells with a silicon oxide (SiO2) film have a lower efficiency than solar cells without a silicon oxide (SiO2) film at low illumination (< 0.4 sun).
Actually, the efficiency in the low illumination condition affects the average power output per day because the PV module mostly operates when the solar irradiation dose is less than 1 sun. To maximize the performance of the PV module, the output at a low light intensity level should also be considered. Shunt resistance (Rshunt) is known to cause a decrease in solar cell efficiency under low illumination conditions. PC1D simulation was used to analyze parameters, such as the series resistance, parallel resistance, and surface recombination, that affect the characteristics of the solar cell at low light intensity. In this study, we confirmed how the SiO2 layer affected the low illumination properties of solar cells, even though these cells were more efficient at 1 sun. Silicon solar cells with a SiNx/SiO2 bilayer or a SiNx single film were fabricated, and their characteristics were evaluated.
Passivation characteristics were measured using the quasi-steady-state photoconductance (QSSPC) technique to evaluate the minority carrier lifetime and the implied open-circuit voltage (VOC), and capacitance-voltage measurements were used to analyze the fixed charges. The values of the shunt resistance and series resistance in solar cells with different passivation layers were compared, and the cause of the decrease in the efficiency under low illumination was also analyzed via fill factor calculation.
분석정보
연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
---|---|---|---|
2023 | 평가예정 | 해외DB학술지평가 신청대상 (해외등재 학술지 평가) | |
2020-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (해외등재 학술지 평가) | KCI등재 |
2008-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
2007-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) | KCI후보 |
2003-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
---|---|---|---|
2016 | 1.8 | 0.18 | 1.17 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.92 | 0.77 | 0.297 | 0.1 |
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