IrO₂-RuO₂피막의 내식성 향상에 관한 연구 = Study On The Improvement Of Corrosion Resistance Of IrO₂-RuO₂Film
Dip-coating법으로 전도성 코팅층인 IrO2-RuO2 막을 α-Ti기판 위에 피복 시키는데, 이 코팅층의 내식성 향상을 위해서 변수로 중간층 삽입, 열처리 온도(400℃, 450℃, 500℃), 열처리시 주입가스량(3, 5, 7sccm) 열처리 시간(60, 90, 120min)등으로 설정하였고, 각각의 변수를 3가지로 변화시켜 실험하였다. 중간층 피막의 재료로는 TiO2이며, 제조방법은 sputtering법과 plasma spray법으로 미세구조를 달리하여 기판위에 피복시켰다. 그러나 변수가 너무 많아 Taguchi method를 도입하여 4가지 변수의 영향을 알아보았다. 이러한 변수를 조합하여 실험한 결과 IrO2-RuO2 피막 제조시 기판위에 중간층을 plasma spray법으로 제조하고, 열처리 온도 450℃, 주입가스량 3sccm, 열처리 시간을 120분으로 하였을 때 전도성코팅층인(활성화 코팅층) IrO2-RuO2 피막의 내식성 향상에 있어 가장 우수하게 나타났다.
더보기Recently the study of IrO2-RuO2 film have been done in the cathode protection field. The film is used to protect efficiently the construction, bridge, ship, underground pipe from the corrosion environment. Generally, the structure of IrO2-RuO2 film is tetragonal rutile structure and the films have low specific resistance, non self-diffusion in the thermal condition and high corrosion resistance. The purpose of this investigation was finding optimal process condition to improve on the corrosion resistance of the IrO2-RuO2 film through the Taguchi method (the Taguchi method is a way of finding optimal process conditions by orthogonal table of variability) The Taguchi method's condition was justified A(non-bond coating, TiO2 bond coating by plasma spray or sputtering), B(heating temp. 400℃, 450℃, 500℃), C(air flow rate. 3, 5, 7sccm), D(heating time. 60, 90, 120min) in the study. Finally, the optimal process condition of IrO2-RuO2 film appeared with TiO2 bond coating by plasma spray, 450℃ , 3sccm, 120min.
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