SCIE
SCOPUS
KCI등재
Control of Water Vapor Permeation through Oxide Films on Polymers for Flexible Displays
저자
( Won Hoe Koo ) ; ( Sang Hun Choi ) ; ( Hong Koo Baik ) ; ( Sung Man Lee ) ; ( Se Jong Lee )
발행기관
대한금속재료학회 ( 구 대한금속학회 )(The Korean Institute of Metals and Materials)
학술지명
권호사항
발행연도
2005
작성언어
-주제어
KDC
559.705
등재정보
SCIE,SCOPUS,KCI등재
자료형태
학술저널
수록면
107-113(7쪽)
제공처
소장기관
Composite films consisting of tin oxide and silicon oxide produced via thermal evaporation were deposited on polycarbonate substrates as water-barrier films to control the polarizability and packing density of the composite films, both of which are factors significantly affecting water vapor permeation through the films. As the tin oxide was added to the silicon oxide, the polarizability and packing density of the composite films increased, and the water vapor transmission rate (WVTR) through the composite oxide films decreased. Because of their strong interaction with water vapor, the 80 % tin oxide films with the highest polarizability and packing density showed the lowest WVTR; however, the loose microstructures, which were caused by thermal evaporation, resulted in a WVTR still too high to be applied as passivation layers in organic light emitting diodes. Therefore, we deposited SnO2 films with high polarizability on polycarbonate substrates while using an ion-beam-assisted deposition process (IBAD) to increase the packing density. This process resulted in a WVTR below the measurable limit of 0.01 g/㎡/day at 100% RH and 37.8℃. The permeation mechanism of water vapor through the oxide films is discussed in terms of the chemical interaction with water vapor and the microstructure of the oxide films. The chemical interaction of water vapor with oxide films was investigated by the refractive index obtained from ellipsometry and the OH group peak obtained from x-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The microstructure of the composite oxide films was characterized using atomic force microscopy (AFM) and transmission electron microscopy (TEM). The activation energy for water vapor permeation through the oxide films was also measured in relation to the permeation mechanism of water vapor.
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