KCI우수등재
SCOPUS
저압에서의 사일렌과 디사일렌의 열분해 반응에 관한 연구
저자
발행기관
학술지명
권호사항
발행연도
1995
작성언어
Korean
등재정보
KCI우수등재,SCOPUS,ESCI
자료형태
학술저널
발행기관 URL
수록면
350-357(8쪽)
제공처
소장기관
SiH₄와 Si₂H_6를 1~3 Torr 정도의 저압에서 열분해시켰을 때, 반응물의 농도 변화를 살펴보고 이로부터 열분해의 반응 기구를 예측하였다. 분석 기기로는 질량 분석기를 이용하였으며, 분해 온도 범위는 SiH₄의 경우는 350~475℃, Si₂H_6의 경우는 275~375℃ 이었다 . SiH₄의 분해 양상은 1차 비가역 반응에 잘 들어 맞았으며, 그 속도 상수는 문헌에 보고되어 있는 상압에서의 속도보다 작았다. Si₂H_6는 낮은 온도 범위에서도 잘 분해되었으며, 중간 생성물로 많은 양의 SiH₄를 만들었다. 그리고 , SiH₄는 고분자화되는 반응을 거치지 않고 고체 실리콘을 생성하지만, Si₂H_6는 중간 생성물로 만들어진 SiH₄와 SiH₂에 의하여, 고분자화 반응을 거쳐서 고체 실리콘을 만들 수 있음을 알았다.
더보기We have analyzed the pyrolysis products of SiR₄ and Si₂H_6 at pressures between 1 and 3 Torr under isothermal conditions, and proposed a reaction mechanism of the pyrolysis based on the results. Quadrupole mass spectrometer was used as an analysis instrument, and the pyrolysis was performed at the temperatures between 350℃ and 475℃ for SiH₄, and between 275℃ and 375℃ for Si₂H_6. The rates of SiH₄ decomposition followed the first-order equation and the rate constant was smaller than one reported for atmospheric pressure. Si₂H_6 decomposed relatively easily at lower temperature and produced SiH as an intermediate. The proposed reaction mechanism indicated that SiH₄ decomposed without production of polymer, but Si₂H_6 produced polymers that were initiated the intermediates of Si₂H_6 pyrolysis, i.e., SiH₄ and SiH₂.
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