100KW DC Arc Plasma of CVD System for Low Cost Large Area Diamond Film Deposition
저자
Lu, F.X. ; Zhong, G.F. ; Fu, Y.L. ; Wang, J.J. ; Tang, W.Z. ; Li, G.H. ; Lo, T.L. ; Zhang, Y.G. ; Zang, J.M. ; Pan, C.H. ; Tang, C.X. ; Lu, Y.P.
발행기관
학술지명
권호사항
발행연도
1996
작성언어
English
주제어
자료형태
학술저널
수록면
216-220(5쪽)
제공처
소장기관
In the present paper, a new type of DC arc plasma torch is disclosed. The principles of the new magnetic and fluid dynamic controlled large orifice long discharge tunnel plasma torch is discussed. Two series of DC Plasma Jet diamond film deposition equipment have been developed. The 20kW Jet equipped with a $\Phi$70 mm orifice torch is capable of deposition diamond films at a growth rate as high as 40$\mu\textrm{m}$/h over a substrate area of $\Phi$65 mm. The 100kW high power Jet which is newly developed based on the experience of the low power model is equipped with a $\Phi$120 mm orifice torch, and is capable of depositing diamond films over a substrate area of $\Phi$110 mm at growth rate as high as 40 $\mu\textrm{m}$/h, and can be operated at gas recycling mode, which allows 95% of the gases be recycled. It is demonstrated that the new type DC plasma torch can be easily scaled up to even higher power Jet. It is estimated that even by the 100kW Jet, the cost for tool grade diamond films can be as low as less than $4/carat.
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