KCI등재
임피던스 변화를 이용한 실시간 기판 변형 측정 = In-situ Warpage Measurement Technique Using Impedance Variation
저자
김우재 (광운대학교) ; 신기원 (광운대학교) ; 권희태 (광운대학교) ; 온범수 (광운대학교) ; 박연수 (광운대학교) ; 김지환 (광운대학교) ; 방인영 (광운대학교) ; 권기청 (광운대학교) ; Kim, Woo Jae ; Shin, Gi Won ; Kwon, Hee Tae ; On, Bum Soo ; Park, Yeon Su ; Kim, Ji Hwan ; Bang, In Young ; Kwon, Gi-Chung 연구자관계분석
발행기관
학술지명
반도체디스플레이기술학회지(Journal of the semiconductor & display technology)
권호사항
발행연도
2021
작성언어
Korean
주제어
등재정보
KCI등재
자료형태
학술저널
수록면
32-36(5쪽)
KCI 피인용횟수
0
제공처
The number of processes in the manufacture of semiconductors, displays and solar cells is increasing. And as the processes is performed, multiple layers of films and various patterns are formed on the wafer. At this time, substrate warpage occurs due to the difference in stress between each film and pattern formed on the wafer. the substrate warping phenomenon occurs due to the difference in stress between each film and pattern formed on the wafer. We developed a new warpage measurement method to measure wafer warpage during real-time processing. We performed an experiment to measure the presence and degree of warpage of the substrate in real time during the process by adding only measurement equipment for applying additional electrical signals to the existing ESC and detecting the change of the additional electric signal. The additional electrical measurement signal applied at this time is very small compared to the direct current (DC) power applied to the electrostatic chuck whit a frequency that is not generally used in the process can be selectively used. It was confirmed that the measurement of substrate warpage can be easily separated from other power sources without affecting.
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연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
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2027 | 평가예정 | 재인증평가 신청대상 (재인증) | |
2021-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (재인증) | KCI등재 |
2019-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (계속평가) | KCI등재 |
2016-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (계속평가) | KCI등재 |
2012-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2010-03-25 | 학회명변경 | 한글명 : 한국반도체및디스플레이장비학회 -> 한국반도체디스플레이기술학회영문명 : The Korean Society of Semiconductor & Display Equipment Technology -> The Korean Society of Semiconductor & Display Technology | KCI등재 |
2010-03-25 | 학술지명변경 | 한글명 : 반도체및디스플레이장비학회지 -> 반도체디스플레이기술학회지외국어명 : Journal of the Semiconductor and Display Equipment Technology -> Journal of the Semiconductor & Display Technology | KCI등재 |
2009-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
2008-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) | KCI후보 |
2006-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
---|---|---|---|
2016 | 0.29 | 0.29 | 0.26 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.21 | 0.18 | 0.217 | 0.02 |
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